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1. (WO2016196576) COUCHE D'ASSEMBLAGE À BASE D'UN COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ D'ACRYLIQUE POUR AFFICHAGES SOUPLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/196576    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/035193
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 01.06.2016
CIB :
C09J 7/00 (2006.01), C09J 153/00 (2006.01), B32B 7/12 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Inventeurs : ALOSHYNA EP LESUFFLEUR, Marie; (US).
EVERAERTS, Albert I.; (US).
ERDOGAN-HAUG, Belma; (US)
Mandataire : GALLAGHER, Ann K.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/170,514 03.06.2015 US
Titre (EN) ACRYLIC BLOCK COPOLYMER-BASED ASSEMBLY LAYER FOR FLEXIBLE DISPLAYS
(FR) COUCHE D'ASSEMBLAGE À BASE D'UN COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ D'ACRYLIQUE POUR AFFICHAGES SOUPLES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is an assembly layer for a flexible device. The assembly layer is derived from precursors including an acrylic block copolymer including (a) at least two A block polymeric units that are the reaction product of a first monomer composition comprising an alkyl methacrylate, an aralkyl methacrylate, an aryl methacrylate, or a combination thereof, wherein each A block has a Tg of at least 50 °C, and wherein the acrylic block copolymer comprises 5 to 50 weight percent A block, and (b) at least one B block polymeric unit that is the reaction product of a second monomer composition comprising an alkyl (meth)acrylate, a heteroalkyl (meth)acrylate, a vinyl ester, or a combination thereof, wherein the B block has a Tg no greater than 10 °C, and wherein the acrylic block copolymer comprises 50 to 95 weight percent B block. Within a temperature range of between -30 °C to 90 °C, the assembly layer has a shear storage modulus at a frequency of 1 rad/sec that does not exceed 2 MPa, a shear creep compliance (J) of at least about 6x10-6 1/Pa measured at 5 seconds with an applied shear stress between 50 kPa and 500 kPa, and a strain recovery of at least 50% at at least one point of applied shear stress within the range of 5 kPa to 500 kPa within 1 minute after removing the applied shear stress. In preferred embodiments the A block polymeric units are of a polymethyl methacrylate and the B block polymeric units are made of poly-n-butyl acrylate.
(FR)La présente invention concerne une couche d'assemblage pour dispositif souple. La couche d'assemblage est dérivée de précurseurs comprenant un copolymère séquencé d'acrylique contenant (a) au moins deux motifs polymères séquencés A qui sont le produit de la réaction d'une première composition monomère comprenant un méthacrylate d'alkyle, un méthacrylate d'aralkyle, un méthacrylate d'aryle, ou une combinaison de ceux-ci, chaque séquence A ayant une Tg d'au moins 50 °C, et ledit copolymère séquencé d'acrylique comprenant de 5 à 50 % en poids de séquence A, et (b) au moins un motif polymère séquencé B qui est le produit de la réaction d'une seconde composition monomère comprenant un (méth)acrylate d'alkyle, un (méth)acrylate d'hétéroalkyle, un ester de vinyle, ou une combinaison de ceux-ci, la séquence B ayant une Tg qui n'est pas supérieure à 10 °C, et le copolymère séquencé d'acrylique comprenant de 50 à 95 % en poids de séquence B. Dans une plage de températures comprises entre -30 et 90°C, la couche d'assemblage a un module de conservation en cisaillement à une fréquence de 1 rad/sec qui n'excède pas 2 MPa, une compliance au fluage en cisaillement (J), mesurée à 5 secondes à une contrainte de cisaillement appliquée comprise entre 50 et 500 kPa, d'au moins environ 6x10-6 1/Pa, et une recouvrance après déformation d'au moins 50 % en au moins un point de la contrainte de cisaillement appliquée dans la plage de 5 à 500 kPa dans la minute qui suit l'élimination de la contrainte de cisaillement appliquée. Dans des modes de réalisation préférés, les motifs polymères séquencés A sont de type polyméthacrylate de méthyle et les motifs polymères séquencés B sont constitués de polyacrylate de n-butyle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)