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1. (WO2016195986) CHAMBRE DE PROCESSUS

Pub. No.:    WO/2016/195986    International Application No.:    PCT/US2016/032728
Publication Date: Fri Dec 09 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Tue May 17 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 21/02
H01L 21/67
H05H 1/46
H01J 37/32
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: LIU, Wei
GUARINI, Theresa Kramer
NGUYEN, Huy Q.
BEVAN, Malcolm
GRAOUI, Houda
BOTTINI, Philip A.
HWANG, Bernard L.
HAWRYLCHAK, Lara
GEORGE, Rene
Title: CHAMBRE DE PROCESSUS
Abstract:
Des modes de réalisation décrits par la présente invention portent généralement sur un procédé et un appareil de traitement par plasma d’une chambre de processus. Un substrat sur lequel est formé un empilement de grille peut être placé dans une chambre de processus, et du plasma contenant de l’hydrogène peut servir à traiter l’empilement de grille afin de cuire les défauts dans l’empilement de grille. En résultat du traitement par plasma contenant de l’hydrogène, l’empilement de grille présente des fuites inférieures et une fiabilité améliorée. Pour protéger la chambre de processus d’ions Hx + et des radicaux H* générés par le plasma contenant de l’hydrogène, la chambre de processus peut être traitée par un plasma sans que le substrat y soit placé et avant le traitement par plasma contenant de l’hydrogène. De plus, des composants de la chambre de processus qui sont constitués d’un matériau diélectrique peuvent être recouverts d’un revêtement céramique incluant un oxyde contenant de l’yttrium afin de protéger les composants du plasma.