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1. (WO2016195984) APPAREIL AMÉLIORÉ PERMETTANT DE RÉDUIRE LA NON-UNIFORMITÉ DE LA TEMPÉRATURE D'UN SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2016/195984 N° de la demande internationale : PCT/US2016/032718
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 16.05.2016
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
MILLER, Aaron; US
TAM, Norman L.; US
LIU, Michael; US
Mandataire :
PATTERSON, B. Todd; US
Données relatives à la priorité :
62/171,55105.06.2015US
Titre (EN) IMPROVED APPARATUS FOR DECREASING SUBSTRATE TEMPERATURE NON-UNIFORMITY
(FR) APPAREIL AMÉLIORÉ PERMETTANT DE RÉDUIRE LA NON-UNIFORMITÉ DE LA TEMPÉRATURE D'UN SUBSTRAT
Abrégé :
(EN) Embodiments of the present disclosure provide a cover assembly that includes a cover having a plurality of ports, and each port has a diameter of less than 1 mm, such as between about 0.1 mm to about 0.9 mm. The cover may be disposed between a device side surface of a substrate and a reflector plate, which are all disposed within a thermal processing chamber. The presence of the cover having the plurality of small ports within the thermal processing chamber will improve thermal uniformity over time after processing doped substrates.
(FR) Des modes de réalisation de la présente invention concernent un ensemble de couvercle qui comprend un couvercle ayant une pluralité d'ouvertures, chaque ouverture ayant un diamètre inférieur à 1 mm, comme entre environ 0,1 mm et environ 0,9 mm Le couvercle peut être disposé entre une surface latérale d'un dispositif d'un substrat et une plaque de réflecteur, qui sont tous disposés à l'intérieur d'une chambre de traitement thermique. La présence du couvercle ayant la pluralité de petites ouvertures à l'intérieur de la chambre de traitement thermique permet d'améliorer l'uniformité thermique dans le temps après le traitement de substrats dopés.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)