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1. (WO2016195188) POINTS QUANTIQUES, COMPOSITION COMPRENANT CEUX-CI, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POINTS QUANTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/195188    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/013266
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 04.12.2015
CIB :
C09K 11/02 (2006.01), C09K 11/70 (2006.01), C09K 11/54 (2006.01)
Déposants : SAMSUNG SDI CO., LTD. [KR/KR]; 150-20 Gongse-ro, Giheung-gu Yongin-si Gyeonggi-do 17084 (KR)
Inventeurs : YOUN, Jinsuop; (KR).
KWON, Obum; (KR).
LEE, Jun Woo; (KR).
KONG, Euihyun; (KR).
KIM, Jonggi; (KR).
PARK, Sang Cheon; (KR).
PARK, Onyou; (KR).
WOO, Heeje; (KR).
CHO, Sungseo; (KR).
HAN, Hyunjoo; (KR)
Mandataire : PANKOREA PATENT AND LAW FIRM; 13F, 70 Nonhyeon-ro 85-gil Gangnam-gu Seoul 06234 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2015-0078028 02.06.2015 KR
Titre (EN) QUANTUM DOTS, COMPOSITION COMPRISING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING QUANTUM DOTS
(FR) POINTS QUANTIQUES, COMPOSITION COMPRENANT CEUX-CI, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POINTS QUANTIQUES
(KO) 양자점, 이를 포함하는 조성물 및 양자점의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)Provided are quantum dots passivated with oligomers or polymers which are formed by a reaction of a first monomer having three or more thiol groups (-SH) at a terminal with a second monomer comprising two or more functional groups that can react with the thiol groups at the terminal, and a spacer group located between the two or more functional groups.
(FR)La présente invention concerne des points quantiques passivés à l'aide d'oligomères ou de polymères qui sont formés par une réaction d'un premier monomère comprenant au moins trois groupes thiol (-SH) au niveau d'une extrémité terminale avec un second monomère comprenant au moins deux groupes fonctionnels qui peuvent réagir avec les groupes thiol au niveau de ladite extrémité terminale, et un groupe espaceur situé entre lesdits au moins deux groupes fonctionnels.
(KO)말단에 3개 이상의 티올기(-SH)를 가지는 제1 모노머 및 말단에 상기 티올기와 반응할 수 있는 2개 이상의 작용기(functional group)와 상기 2개 이상의 작용기 사이에 위치하는 스페이서기(spacer group)를 포함하는 제2 모노머를 반응시켜 형성된 올리고머 또는 폴리머로 패시베이션(passivation)된 양자점을 제공한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)