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1. (WO2016195025) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM PROTECTEUR ISOLANT PAR IMPRESSION OFFSET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   
N° de publication : WO/2016/195025 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/066433
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 02.06.2016
CIB :
C09D 11/033 (2014.01) ,B41M 1/06 (2006.01) ,H01B 3/30 (2006.01)
[IPC code unknown for C09D 11/033]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
M
PROCÉDÉS D'IMPRESSION, DE REPRODUCTION, DE MARQUAGE OU DE COPIE; IMPRESSION EN COULEUR
1
Encrage et impression avec une forme d'impression
06
Impression lithographique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
B
CÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
3
Isolateurs ou corps isolants caractérisés par le matériau isolant; Emploi de matériaux spécifiés pour leurs propriétés isolantes ou diélectriques
18
composés principalement de substances organiques
30
matières plastiques; résines; cires
Déposants :
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目１３番９号 13-9, Shibadaimon 1-Chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
Inventeurs :
内田　博 UCHIDA Hiroshi; JP
伊藤　祐司 ITO Yuji; JP
鳥羽　正彦 TOBA Masahiko; JP
Mandataire :
在原　元司 ARIHARA Motoji; JP
Données relatives à la priorité :
2015-11472205.06.2015JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING INSULATING PROTECTIVE FILM BY OFFSET PRINTING
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM PROTECTEUR ISOLANT PAR IMPRESSION OFFSET
(JA) オフセット印刷による絶縁性保護膜形成用組成物
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide an insulating protective film formation composition for forming an insulating protective film using offset printing, wherein, in a system in which a heat-curable resin is used as the insulating protective film, the curable resin is absorbed into a blanket at an insignificant level. [Solution] The composition for forming an insulating protective film by offset printing contains (A) a high-molecular-weight resin having a crosslinking reactive group and having a mass-average molecular weight of greater than 2 × 104 but not greater than 40 × 104, (B) a solvent having a solubility parameter of more than 8.7 and having a boiling point of 150-350°C, and (C) a solvent having a solubility parameter of 7.0-8.7 and a boiling point of 130°C or higher and less than 250°C.
(FR) L'invention vise à fournir une composition de formation de film protecteur isolant permettant de former un film protecteur isolant à l'aide d'une impression offset ; dans un système dans lequel une résine thermodurcissable est utilisée comme film protecteur isolant, la résine durcissable étant absorbée dans une couverture à un niveau négligeable. La composition de formation d'un film protecteur isolant par impression offset contient (A) une résine de poids moléculaire élevé ayant un groupe réactif de réticulation et ayant un poids moléculaire moyen en poids supérieur à 2 × 104 mais pas supérieur à 40 × 104, (B) un solvant ayant un paramètre de solubilité de plus de 8,7 et ayant un point d'ébullition de 150 à 350 °C, et (C) un solvant ayant un paramètre de solubilité de 7,0 à 8,7 et un point d'ébullition de 130 °C ou plus et inférieur à 250° C.
(JA) 【課題】絶縁性保護膜として使用する熱硬化性樹脂を用いる系で、ブランケットへの硬化性樹脂の吸収が問題にならないレベルである、オフセット印刷を用いて絶縁性保護膜を形成するための絶縁性保護膜形成用組成物を提供する。 【解決手段】（Ａ）架橋反応基を有し、質量平均分子量が２×１０４より大きく４０×１０４以下である高分子量樹脂と、（Ｂ）溶解度パラメーターが８．７より大きく、沸点が１５０℃以上３５０℃以下の溶媒と、（Ｃ）溶解度パラメーターが７．０以上８．７以下であり、沸点が１３０℃以上２５０℃未満の溶媒と、を含むオフセット印刷による絶縁性保護膜形成用組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)