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1. (WO2016194874) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUTS DANS UN FILM TRANSMETTANT LA LUMIÈRE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM POLARISEUR LINÉAIRE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE DE POLARISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/194874    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/065924
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 30.05.2016
CIB :
G01N 21/896 (2006.01), G01N 21/892 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : SATO Keiko; (JP).
ANAMI Kikumi; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-114683 05.06.2015 JP
Titre (EN) INSPECTION METHOD FOR DEFECTS IN LIGHT TRANSMISSIVE FILM, MANUFACTURING METHOD FOR LINEAR POLARIZER FILM, AND MANUFCTURING METHOD FOR POLARIZING PLATE
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUTS DANS UN FILM TRANSMETTANT LA LUMIÈRE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM POLARISEUR LINÉAIRE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE DE POLARISATION
(JA) 光透過性フィルムの欠陥検査方法、直線偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The inspection method for defects in a light transmissive film according to one embodiment is a method for inspecting defects in a light transmissive film that is the film to be inspected by, while emitting linearly polarized light as illumination light to a film S to be inspected having light transmittance, capturing an image of the film to be inspected by an imaging device 13 via a linear polarizing plate 12B that is disposed between the film to be inspected and the imaging device in a state of the absorption axis A12B intersecting a direction perpendicular to the oscillation plane of the linearly polarized light, wherein when the linearly polarized light is emitted to the film to be inspected, the difference between the maximum intensity wavelength of the incident light transmitted through the film to be inspected and the linear polarizing plate and incident on the imaging device and the maximum sensitivity wavelength of the imaging device is 50 nm or less.
(FR)L'invention concerne un procédé d'inspection de défauts dans un film transmettant la lumière selon un mode de réalisation, qui est un procédé pour inspecter des défauts dans un film transmettant la lumière qui est le film à inspecter par la capture, tout en émettant une lumière polarisée linéairement en tant que lumière d'éclairage sur un film S à inspecter ayant une transmittance de la lumière, d'une image du film à inspecter par un dispositif d'imagerie 13 par l'intermédiaire d'une plaque de polarisation linéaire 12B qui est disposée entre le film à inspecter et le dispositif d'imagerie dans un état où l'axe d'absorption A12B croise une direction perpendiculaire au plan d'oscillation de la lumière polarisée linéairement, et lorsque la lumière polarisée linéairement est émise sur le film à inspecter, la différence entre la longueur d'onde d'intensité maximale de la lumière incidente transmise à travers le film à inspecter et la plaque de polarisation linéaire et incidente sur le dispositif d'imagerie, et la longueur d'onde de sensibilité maximale du dispositif d'imagerie étant de 50 nm ou moins.
(JA)一実施形態に係る光透過性フィルムの欠陥検査方法は、光透過性を有する被検査フィルムSに、照明光としての直線偏光光を照射しながら、直線偏光光の振動面に対して直交する方向に対して吸収軸A12Bが交差する状態で被検査フィルムと撮像装置13の間に配置された直線偏光板12Bを介して、撮像装置によって被検査フィルムを撮影することによって、被検査フィルムである光透過性フィルムの欠陥を検査する方法であって、被検査フィルムに直線偏光光が照射された際に、被検査フィルム及び直線偏光板を透過して撮像装置に入射する入射光の最大強度波長と、撮像装置の最大感度波長との差が50nm以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)