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1. (WO2016194839) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCESSUS DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/194839 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/065786
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 27.05.2016
CIB :
G03F 7/40 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
40
Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, NISHIAZABU 2-chome, MINATO-KU, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
古谷 創 FURUTANI, Hajime; JP
西尾 亮 NISHIO, Ryo; JP
白川 三千紘 SHIRAKAWA, Michihiro; JP
渋谷 明規 SHIBUYA, Akinori; JP
Mandataire :
蔵田 昌俊 KURATA, Masatoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2015-10955529.05.2015JP
Titre (EN) PATTERN FORMATION METHOD AND PROCESS FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCESSUS DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
Abrégé :
(EN) Provided is a pattern formation method which comprises, in the following order, a step (i) in which an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition is used to form a actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film, a step (ii) in which the film is irradiated with actinic rays or radiation, a step (iii) in which the film is developed with a first developing liquid comprising an organic solvent, thereby removing the low-exposure-amount areas and forming a negative pattern, a step (iv) in which the solubility of the medium-exposure-amount areas of the negative pattern in a second developing liquid is reduced, and a step (v) in which the resultant negative pattern is developed with the second developing liquid to remove the high-exposure-amount areas, thereby leaving the medium-exposure-amount areas only as a pattern. The actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (A) which contains acid-decomposable groups and crosslinkable reactive groups.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation de motif qui comprend, dans l'ordre suivant, une étape (i) au cours de laquelle une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement est utilisée pour former un film sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement, une étape (ii) au cours de laquelle le film est exposé aux rayons actiniques ou au rayonnement, une étape (iii) au cours de laquelle le film est développé à l'aide d'un premier liquide de développement contenant un solvant organique, ce qui permet d'éliminer les zones à faible quantité d'exposition et de former un motif négatif, une étape (iv) au cours de laquelle la solubilité des zones à quantité d'exposition moyenne du motif négatif dans un second liquide de développement est réduite, et une étape (v) au cours de laquelle le motif négatif résultant est développé à l'aide du second liquide de développement afin d'éliminer les zones à quantité d'exposition élevée, ce qui permet de ne laisser comme motif que les zones à quantité d'exposition moyenne. La composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement contient une résine (A) qui inclut des groupes décomposables par un acide et des groupes réactifs réticulables.
(JA) (i) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、(ii) 上記膜に活性光線又は放射線を照射する工程、(iii) 上記膜を、有機溶剤を含有する第1の現像液を用いて現像し、低露光量領域を除去してネガ型パターンを形成する工程、(iv)上記ネガ型パターンの中間露光量領域の第2の現像液に対する溶解性を低下させる工程、及び(v) 上記ネガ型パターンを第2の現像液を用いて現像し、高露光量領域を除去することにより、中間露光量領域のみをパターンとして残存させる工程を、この順序で含むパターン形成方法を提供する。上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸分解性基及び架橋性反応基を含む樹脂(A)を含有する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)