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1. (WO2016194696) CIBLE DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT PAR PULVÉRISATION L'UTILISANT

Pub. No.:    WO/2016/194696    International Application No.:    PCT/JP2016/065249
Publication Date: Fri Dec 09 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Wed May 25 01:59:59 CEST 2016
IPC: C23C 14/34
C23C 14/35
Applicants: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
住友金属鉱山株式会社
Inventors: WATANABE Hiroto
渡邉 寛人
Title: CIBLE DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT PAR PULVÉRISATION L'UTILISANT
Abstract:
L'invention concerne une cible de pulvérisation susceptible de réduire la génération de particules résultant d'une décharge et d'une formation d'arc anormales. Une telle cible de pulvérisation est utilisée pour la pulvérisation par magnétron. Un élément de type plaque est fixé de manière amovible dans une région de non-érosion située au niveau de la partie centrale d'une surface cible de la cible de pulvérisation. Lorsque la cible de pulvérisation est fixée, la surface de l'élément de type plaque sur le côté de la surface cible est de préférence quasiment au niveau de la surface cible avant que la cible de pulvérisation ne soit érodée, ou est de préférence située en une position en retrait par rapport à la surface cible.