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1. (WO2016194669) PROCÉDÉ POUR DÉCHARGER DES RÉSIDUS DANS DES DISPOSITIFS DE TRAITEMENT DE POUDRE ET SYSTÈME POUR DÉCHARGER DES RÉSIDUS DANS DES DISPOSITIFS DE TRAITEMENT DE POUDRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/194669    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/065126
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 23.05.2016
CIB :
F26B 17/00 (2006.01), B01F 7/04 (2006.01), B01F 15/02 (2006.01), B01F 15/06 (2006.01), F26B 17/20 (2006.01)
Déposants : NARA MACHINERY CO., LTD. [JP/JP]; 14-4, Higashi Ooi 4-chome, Shinagawa-ku Tokyo 1400011 (JP)
Inventeurs : TAKASHIMA Hisatsugu; (JP).
SAKAI Shoji; (JP)
Mandataire : NONAKA Takeshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-112766 03.06.2015 JP
Titre (EN) METHOD FOR DISCHARGING RESIDUE IN POWDER PROCESSING DEVICES AND SYSTEM FOR DISCHARGING RESIDUE IN POWDER PROCESSING DEVICES
(FR) PROCÉDÉ POUR DÉCHARGER DES RÉSIDUS DANS DES DISPOSITIFS DE TRAITEMENT DE POUDRE ET SYSTÈME POUR DÉCHARGER DES RÉSIDUS DANS DES DISPOSITIFS DE TRAITEMENT DE POUDRE
(JA) 粉体処理装置の残留物排出方法、及び粉体処理装置の残留物排出システム
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method to discharge power remaining inside a casing of a powder processing device. The present invention is a method for discharging residue in a powder processing device that comprises a casing, a supply port provided on top at one end of the casing, and a discharge port provided on the bottom at the other end of the casing and that moves powder in the casing toward the discharge port by the powder being pushed by powder introduced from the supply port, wherein the method comprises a powder introduction stop step to stop the introduction of powder from the supply port after the powder processing completes, and a sublimable solid particle introduction step to introduce sublimable solid particles that sublimate at normal temperature and pressure from the supply port.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour décharger de la poudre restante à l'intérieur d'un carter d'un dispositif de traitement de poudre. La présente invention concerne un procédé pour décharger des résidus dans un dispositif de traitement de poudre, qui comprend un carter, un orifice d'alimentation situé sur le haut au niveau d'une extrémité du carter, et un orifice de décharge situé sur le fond au niveau de l'autre extrémité du carter, et qui déplace la poudre dans le carter vers l'orifice de décharge par la poudre poussée par la poudre introduite à partir de l'orifice d'alimentation, le procédé comprenant une étape d'arrêt d'introduction de poudre pour arrêter l'introduction de la poudre à partir de l'orifice d'alimentation lorsque le traitement de poudre est terminé, et une étape d'introduction de particules solides sublimables pour introduire des particules solides sublimables qui se subliment à une température et une pression normales à partir de l'orifice d'alimentation.
(JA)粉体処理装置において、ケーシング内に残留する粉体を排出する方法を提供する。 ケーシングと、ケーシングの一方の端部の上部に設けられた供給口と、ケーシングの他方の端部の下部に設けられた排出口とを有し、供給口から投入される粉体に押し出されて、ケーシング内の粉体が排出口の方に移動する粉体処理装置における残留物排出方法である。粉体処理の終了後に、供給口から粉体の投入を停止する粉体投入停止ステップと、粉体投入停止ステップの後に、供給口から常温常圧で昇華する昇華性固体粒子を投入する昇華性固体粒子投入ステップとを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)