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1. (WO2016194658) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'UNE SOLUTION AQUEUSE DE CHLORURE DE COBALT
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N° de publication : WO/2016/194658 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/065045
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 20.05.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 09.11.2016
CIB :
C22B 23/06 (2006.01) ,C01G 51/08 (2006.01) ,C22B 3/46 (2006.01) ,C22B 23/00 (2006.01) ,H01M 4/525 (2010.01)
Déposants : SUMITOMO METAL MINING CO.,LTD.[JP/JP]; 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716, JP
Inventeurs : TAN Toshirou; JP
TAKANO Masatoshi; JP
OHARA Hideki; JP
ASANO Satoshi; JP
Mandataire : NAKAI Hiroshi; JP
Données relatives à la priorité :
2015-11066629.05.2015JP
Titre (EN) AQUEOUS COBALT CHLORIDE SOLUTION PURIFICATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'UNE SOLUTION AQUEUSE DE CHLORURE DE COBALT
(JA) 塩化コバルト水溶液の浄液方法
Abrégé : front page image
(EN) [Problem] To provide an aqueous cobalt chloride solution purification method capable of efficiently removing impurities from a cobalt salt solution. [Solution] A method for bringing metallic nickel into contact with an aqueous cobalt chloride-containing solution to remove impurities by a substitution reaction, wherein the pH of the aqueous cobalt chloride-containing solution is adjusted to 1.5 to 2.5. Since the pH of the aqueous cobalt chloride-containing solution is adjusted to 1.5 to 2.5, it is possible to effectively remove the passive film on the surface of the metallic nickel. When the passive film is removed and the metallic nickel is brought into contact with the aqueous cobalt chloride-containing solution, impurities that are more electropositive than metallic nickel can be precipitated by a substitution reaction. Moreover, since the metallic nickel need only be brought into contact with the aqueous cobalt chloride-containing solution, it is possible to remove impurities from the aqueous cobalt chloride-containing solution easily.
(FR) L'invention vise un procédé de purification d'une solution aqueuse de chlorure de cobalt capable d'éliminer efficacement des impuretés présentes dans une solution de sel de cobalt. Pour ce faire, l'invention concerne un procédé permettant d'amener du nickel métallique en contact avec une solution aqueuse contenant du chlorure de cobalt afin d'éliminer des impuretés par une réaction de substitution, le pH de la solution aqueuse contenant du chlorure de cobalt étant ajusté à 1,5 à 2,5. Étant donné que le pH de la solution aqueuse contenant du chlorure de cobalt est ajusté à 1,5 à 2,5, il est possible d'éliminer efficacement le film passif sur la surface du nickel métallique. Lorsque le film passif est éliminé et que le nickel métallique est mis en contact avec la solution aqueuse contenant du chlorure de cobalt, des impuretés qui sont plus électropositives que le nickel métallique peuvent précipiter par une réaction de substitution. De plus, étant donné que le nickel métallique a seulement besoin d'être mis en contact avec la solution aqueuse contenant du chlorure de cobalt, il est possible d'éliminer facilement des impuretés de la solution aqueuse contenant du chlorure de cobalt.
(JA) 【課題】効率よくコバルト塩溶液から不純物を除去できる塩化コバルト水溶液の浄液方法を提供する。 【解決手段】塩化コバルトを含有する水溶液に金属ニッケルを接触させて置換反応によって不純物を除去する方法であって、塩化コバルトを含有する水溶液のpHを1.5以上2.5以下に調整する。塩化コバルトを含有する水溶液のpHを1.5以上2.5以下に調整しているので、金属ニッケル表面の不動態膜を効果的に除去することができる。不動態膜が除去されれば、金属ニッケルが塩化コバルトを含有する水溶液と接触すれば、置換反応によって金属ニッケルよりも貴な不純物を析出させることができる。しかも、金属ニッケルを塩化コバルトを含有する水溶液に接触させるだけであるから、簡便に塩化コバルトを含有する水溶液から不純物を除去することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)