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1. (WO2016194358) DISPOSITIF DE MESURE DE RÉSISTANCE DE PEAU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/194358    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/002607
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 30.05.2016
CIB :
A61B 5/053 (2006.01)
Déposants : KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION [JP/JP]; 6-10-1, Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka-shi, Fukuoka 8128581 (JP).
MAZDA MOTOR CORPORATION [JP/JP]; 3-1, Shinchi, Fuchu-cho, Aki-gun, Hiroshima 7308670 (JP)
Inventeurs : HATTORI, Reiji; (JP).
MORIMOTO, Yuhei; (JP).
YONEDA, Ryota; (JP).
WATANABE, Masayuki; (JP).
MICHIDA, Nanae; (JP)
Mandataire : MAEDA & PARTNERS; Shin-Daibiru Bldg. 23F, 2-1, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-110508 29.05.2015 JP
Titre (EN) SKIN RESISTANCE MEASURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE RÉSISTANCE DE PEAU
(JA) 皮膚抵抗測定装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a skin resistance measuring device having a simple structure and capable of precisely measuring skin resistance. An alternating-current voltage generated by a high-frequency power source (21) is applied to a first electrode (11), and an electric current at a second electrode (12) is detected by a detection circuit (30). An induction element (25) is disposed, for example, at a position along an electrical path from the high-frequency power source (21) to the first electrode (11). A control unit (40) performs control of varying the frequency of the high-frequency power source (21), receives a detection signal (S1) from the detection circuit (30), and determines the impedance of a human body touching an electrode unit (10). The skin resistance of the human body is determined from the value of impedance at a frequency that produces minimum impedance.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure de résistance de peau ayant une structure simple et capable de mesurer la résistance de peau avec précision. Une tension de courant alternatif générée par une source d'alimentation à haute fréquence (21) est appliquée à une première électrode (11), et un courant électrique au niveau d'une seconde électrode (12) est détecté par un circuit de détection (30). Un élément d'induction (25) est disposé, par exemple, au niveau d'une position le long d'un trajet électrique allant de la source d'alimentation à haute fréquence (21) à la première électrode (11). Une unité de commande (40) réalise une commande pour varier la fréquence de la source d'alimentation à haute fréquence (21), reçoit un signal de détection (S1) provenant du circuit de détection (30), et détermine l'impédance d'un corps humain touchant une unité d'électrode (10). La résistance de peau du corps humain est déterminée à partir de la valeur d'impédance à une fréquence qui produit une impédance minimale.
(JA)皮膚抵抗を精度良く測定可能であり、かつ、構成が簡易である皮膚抵抗測定装置を提供する。高周波電源(21)によって生成された交流電圧が第1電極(11)に与えられ、第2電極(12)の電流が検出回路(30)によって検出される。誘導素子(25)が高周波電源(21)から第1電極(11)までの電気経路等に設けられている。制御部(40)は高周波電源(21)の周波数を変更制御し、検出回路(30)から検出信号(S1)を受け、電極部(10)に接触した人体のインピーダンスを求める。インピーダンスが極小となる周波数におけるインピーダンスの値から、人体の皮膚抵抗が求められる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)