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1. (WO2016194138) DISPOSITIF GÉNÉRATEUR DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/194138 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/065907
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 02.06.2015
CIB :
H05H 1/26 (2006.01)
Déposants : FUJI MACHINE MFG. CO., LTD.[JP/JP]; 19 Chausuyama, Yamamachi, Chiryu-shi, Aichi 4728686, JP
Inventeurs : NIWA, Akihiro; JP
JINDO, Takahiro; JP
Mandataire : NEXT INTERNATIONAL; 7th Floor, Daiei Building, 11-20, Nishiki 1-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PLASMA GENERATING DEVICE
(FR) DISPOSITIF GÉNÉRATEUR DE PLASMA
(JA) プラズマ発生装置
Abrégé : front page image
(EN) In an atmospheric pressure plasma generating device (10) of the present invention, a nozzle block (36), in which a fourth gas flow channel (66) for jetting a plasma gas is formed, is covered with a cover (22), and a through hole (70) is formed in the cover such that a leading end of the fourth gas flow channel (66) is positioned inside. Then, a heated gas is supplied to the inside of the cover (22). Consequently, the heated gas is jetted from the through hole (70) of the cover (22), and a plasma gas is jetted such that the plasma gas penetrates the heated gas. Consequently, the plasma gas is surrounded by the heated gas, thereby preventing the plasma gas from being deactivated. Furthermore, a distance X between the leading end of the fourth gas flow channel (66), and an opening of the through hole (70) to the outer wall surface of the cover (22) is 0-2 mm in the plasma gas getting direction. Consequently, the plasma gas can be suitably covered with the heated gas without disturbing the flow of the plasma gas.
(FR) Dans un dispositif de génération de plasma à pression atmosphérique (10) selon la présente invention, un bloc de buses (36), dans lequel est formé un quatrième canal d'écoulement gazeux (66) pour projeter un gaz plasma, est recouvert d'un couvercle (22), et un trou traversant (70) est formé dans le couvercle de telle sorte qu'une extrémité avant du quatrième canal d'écoulement gazeux (66) soit positionnée à l'intérieur. Ensuite, un gaz chauffé est introduit à l'intérieur du couvercle (22). Par conséquent, le gaz chauffé est projeté à partir du trou traversant (70) du couvercle (22), et un gaz plasma est injecté de telle sorte que le gaz plasma pénètre dans le gaz chauffé. Par conséquent, le gaz plasma est entouré par le gaz chauffé, ce qui permet d'empêcher que le gaz plasma soit désactivé. En outre, une distance X entre l'extrémité avant du quatrième canal d'écoulement gazeux (66), et une ouverture du trou traversant (70) vers la surface de la paroi externe du couvercle (22) est de 0 à 2 mm dans la direction d'obtention de gaz plasma. Par conséquent, le gaz plasma peut être convenablement recouvert avec le gaz chauffé sans perturber l'écoulement du gaz plasma.
(JA) 本発明の大気圧プラズマ発生装置(10)では、プラズマガスを噴出する第4ガス流路(66)が形成されたノズルブロック(36)が、カバー(22)によって覆われており、そのカバーに、第4ガス流路(66)の先端が内側に位置するように貫通穴(70)が形成されている。そして、カバー(22)の内部に、加熱された加熱ガスが供給される。これにより、カバー(22)の貫通穴(70)から加熱ガスが噴出されるとともに、その加熱ガスを貫くように、プラズマガスが噴出される。これにより、プラズマガスが加熱ガスによって囲まれることで、プラズマガスの失活が防止される。また、第4ガス流路(66)の先端と、貫通穴(70)のカバー(22)の外壁面への開口との間の距離Xが、プラズマガスの噴出方向において、0~2mmとされている。これにより、プラズマガスの流れを阻害することなく、加熱ガスによってプラズマガスを好適に覆うことが可能となる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)