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1. (WO2016194032) DISPOSITIF OPTIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/194032    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/065516
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 29.05.2015
CIB :
G02B 3/00 (2006.01), B23K 26/55 (2014.01), G02B 5/10 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventeurs : IMAI Ryo; (JP).
MINEMURA Hiroyuki; (JP)
Mandataire : HIRAKI Yusuke; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) OPTICAL DEVICE AND OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF OPTIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF OPTIQUE
(JA) 光学デバイス、光学デバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a technique capable of easily fabricating a desired optical device within a transparent substrate. This optical device is manufactured by modifying the vicinity of a hollow structure within a transparent substrate in order to change the shape of the hollow structure.
(FR)La présente invention vise à pourvoir à une technique qui permet de fabriquer facilement un dispositif optique souhaité à l'intérieur d'un substrat transparent. Ce dispositif optique est fabriqué grâce à la modification des environs d'une structure creuse à l'intérieur d'un substrat transparent afin de changer la forme de la structure creuse.
(JA)本発明は、透明基板内部に所望の光学デバイスを簡便に製作することができる技術を提供することを目的とする。本発明に係る光学デバイスは、透明基板内部の中空構造の近傍を変性させて前記中空構造の形状を変形させることにより製造されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)