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1. (WO2016193978) PROCÉDÉS DE PRODUCTION D'UN MOTIF DE RÉSERVE DE GRAVURE SUR UNE SURFACE MÉTALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/193978 N° de la demande internationale : PCT/IL2016/050567
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 02.06.2016
CIB :
G03F 1/00 (2012.01) ,H05K 3/00 (2006.01) ,H05K 3/06 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
02
dans lesquels le matériau conducteur est appliqué à la surface du support isolant et est ensuite enlevé de zones déterminées de la surface, non destinées à servir de conducteurs de courant ou d'éléments de blindage
06
Elimination du matériau conducteur par voie chimique ou électrolytique, p.ex. par le procédé de photo-décapage
Déposants :
JET CU PCB LTD. [IL/IL]; 6, Yad Haruzim St. 4464103 Kefar Sava, IL
Inventeurs :
FRENKEL, Moshe; IL
SHPAISMAN, Nava; IL
Mandataire :
LIVER, Naomi; IL
Données relatives à la priorité :
62/170,71304.06.2015US
Titre (EN) METHODS FOR PRODUCING AN ETCH RESIST PATTERN ON A METALLIC SURFACE
(FR) PROCÉDÉS DE PRODUCTION D'UN MOTIF DE RÉSERVE DE GRAVURE SUR UNE SURFACE MÉTALLIQUE
Abrégé :
(EN) Methods and composition sets for forming etch-resist masks on a metallic surface are provided. The method may include applying a composition comprising a first reactive component onto a metallic surface to form a primer layer; and image-wise printing by a nonimpact printing process on the primer layer another composition comprising a second reactive component to produce an etch-resist mask, wherein when droplets of the second composition contact the primer layer, the reactive components undergo a chemical reaction so as to immobilize the droplets. The set may include a first liquid composition comprising a fixating reactive component and a second liquid composition comprising an etch-resist reactive component, wherein the fixating reactive component and the fixating reactive component are capable undergoing a chemical reaction to form a bi-component material that is insoluble in water and in an acidic etch solution.
(FR) La présente invention concerne des procédés et des ensembles de composition permettant de former des masques de réserve de gravure sur une surface métallique. Le procédé peut consister à appliquer une composition comprenant un premier composant réactif sur une surface métallique pour former une couche d'apprêt; et imprimer sous forme d'image par un procédé d'impression sans impact sur la couche d'apprêt une autre composition comprenant un second composant réactif pour produire un masque de réserve de gravure; lorsque des gouttelettes de la seconde composition entrent en contact avec la couche d'amorce, les composants réactifs subissent une réaction chimique de telle sorte que les gouttelettes sont immobilisées. L'ensemble peut comprendre une première composition liquide comprenant un composant réactif de fixation et une seconde composition liquide comprenant un composant réactif de réserve de gravure, le composant réactif de fixation et le composant réactif de fixation étant capables de subir une réaction chimique pour former un matériau bi-composant qui est insoluble dans l'eau et dans une solution de gravure acide.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)