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1. (WO2016193967) APPAREIL DE MESURE DE MÉTROLOGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/193967 N° de la demande internationale : PCT/IL2016/050554
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 29.05.2016
CIB :
G01N 23/22 (2006.01) ,G01N 21/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
22
en mesurant l'émission secondaire
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
Déposants :
XWINSYS LTD. [IL/IL]; 6 Hatikshoret Street Ramat Gabriel Industrial Zone 2307049 Migdal Haemek, IL
Inventeurs :
REINIS, Doron; IL
GEFFEN, Michael; IL
PERETZ, Roni; IL
SMITH, Colin; IL
Mandataire :
LUDAR, Aryeh; IL
Données relatives à la priorité :
62/169,01501.06.2015US
Titre (EN) METROLOGY MEASURING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE MESURE DE MÉTROLOGIE
Abrégé :
(EN) The present disclosure provides a method and an apparatus for apparatus for accurately measuring and calibrating elemental concentration measurements for a semiconductor wafer. The apparatus includes an edxrf system for calculating an elemental concentration at a target area of the semiconductor wafer. The apparatus further includes an optical subsystem for calculating volumetric information of the target area of the semiconductor wafer. The elemental concentration may be calibrated by first correlating the elemental concentration measurements for a norm feature at the target area with the volumetric information for the norm feature of the target area to obtain a calibration data. Thereafter, the calibration data obtained is used to calibrate the elemental concentration measurements to achieve an accurate measurement thereof.
(FR) La présente invention concerne un procédé et un appareil permettant de mesurer et d'étalonner avec précision des mesures de la concentration élémentaire pour une tranche de semi-conducteur. L'appareil comprend un système EDXRF permettant de calculer une concentration élémentaire au niveau d'une zone cible de la tranche de semi-conducteur. L'appareil comprend en outre un sous-système optique permettant de calculer des informations volumétriques de la zone cible de la tranche de semi-conducteur. La concentration élémentaire peut être étalonnée en corrélant les premières mesures de la concentration élémentaire pour la spécificité d'une norme au niveau de la zone cible avec les informations volumétriques pour la spécificité de la norme de la zone cible afin d'obtenir des données d'étalonnage. Ensuite, les données d'étalonnage obtenues servent à étalonner les mesures de la concentration élémentaire afin d'en obtenir une mesure précise.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)