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1. (WO2016193581) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE LA DÉFECTIVITÉ D'UN FILM DE COPOLYMÈRE A BLOCS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/193581 N° de la demande internationale : PCT/FR2016/051251
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 26.05.2016
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
Déposants :
ARKEMA FRANCE [FR/FR]; 420 rue d'Estienne d'Orves 92705 Colombes Cedex, FR
INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX [FR/FR]; 1, Avenue du Docteur Albert Schweitzer 33402 Talence Cedex, FR
UNIVERSITE DE BORDEAUX [FR/FR]; 35, Place Pey Berland 33000 Bordeaux, FR
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3, rue Michel Ange 75794 Paris Cedex 14, FR
Inventeurs :
CHEVALIER, Xavier; FR
NICOLET, Celia; FR
NAVARRO, Christophe; FR
HADZIIOANNOU, Georges; FR
Mandataire :
SCHAEFER, Anne-Sophie; FR
Données relatives à la priorité :
15.5498302.06.2015FR
Titre (EN) METHOD FOR REDUCING THE DEFECTIVITY OF A BLOCK COPOLYMER FILM
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE LA DÉFECTIVITÉ D'UN FILM DE COPOLYMÈRE A BLOCS
Abrégé :
(EN) The invention concerns a method for reducing the defectivity of a block copolymer film (BPC1), the bottom surface of which is in contact with a previously neutralised surface (N) of a substrate (S) and the top surface of which is covered by a top surface neutralisation layer (TC), so as to obtain an orientation of the nano-domains of said block copolymer (BPC1) perpendicular to the two bottom and top interfaces, said method being characterised in that said top surface neutralisation layer (TC) implemented in order to cover the top surface of the block copolymer film (BCP1) is constituted by a second block copolymer (BPC2).
(FR) L'invention concerne un procédé de réduction de la défectivité d'un film de copolymère à blocs (BPC1), dont la surface inférieure est en contact avec une surface (N) préalablement neutralisée d'un substrat (S) et dont la surface supérieure est couverte par une couche supérieure (TC) de neutralisation de surface, pour permettre l'obtention d'une orientation des nano-domaines dudit copolymère à blocs (BPC1) perpendiculairement aux deux interfaces inférieure et supérieure, ledit procédé étant caractérisé en ce que ladite couche supérieure (TC) de neutralisation de surface mise en oeuvre pour recouvrir la surface supérieure du film de copolymère à blocs (BCP1) est constituée par un deuxième copolymère à blocs (BPC2).
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)