Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2016193427) SOURCE D’ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION D’UN FAISCEAU D’ÉLECTRONS AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE TELLE SOURCE D’ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/193427 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/062649
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 03.06.2016
CIB :
H01J 37/04 (2006.01) ,H01J 37/07 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
06
Sources d'électrons; Canons à électrons
07
Elimination des effets nuisibles dus à des effets thermiques ou à des champs électriques ou magnétiques
Déposants :
CARL VON OSSIETZKY UNIVERSITÄT OLDENBURG [DE/DE]; Ammerländer Heerstrasse 114-118 26129 Oldenburg, DE
Inventeurs :
LIENAU, Christoph; DE
GROSS, Petra; DE
ROBIN, Jörg; DE
VOGELSANG, Jan; DE
Mandataire :
ZACCO DR. PETERS & PARTNER; Am Wall 187 - 189 28195 Bremen, DE
Données relatives à la priorité :
10 2015 108 893.205.06.2015DE
Titre (EN) ELECTRON SOURCE AND METHOD FOR GENERATING AN ELECTRON BEAM, AND A METHOD FOR PRODUCING AN ELECTRON SOURCE OF THIS KIND
(FR) SOURCE D’ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION D’UN FAISCEAU D’ÉLECTRONS AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE TELLE SOURCE D’ÉLECTRONS
(DE) ELEKTRONENQUELLE UND VERFAHREN ZUM ERZEUGEN EINES ELEKTRONENSTRAHLS SOWIE EIN VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER SOLCHEN ELEKTRONENQUELLE
Abrégé :
(EN) The invention relates to an electron source (10) for generating an electron beam, comprising a cathode (11). In order to allow a higher temporal resolution and/or a smaller distance between the electron source (10) and a sample, the electron source is characterized in that the cathode (11) has a tapering metallic structure (14), and the metallic structure (14) has a nanotip (15) for focusing at least one plasmon and for outputting electrons, wherein the metallic structure (14) has, at a distance from the nanotip (15), a coupling element (16) for exciting the plasmon by means of an electromagnetic wave (19).
(FR) L’invention concerne un source d’électrons (10) destinée à générer un faisceau d’électrons, comprenant une cathode (11). En vue de rendre possible une résolution dans le temps plus élevée et/ou un écart plus faible entre la source d’électrons (10) et un échantillon, la source d’électrons est caractérisée en ce que la cathode (11) possède une structure métallique (14) qui se rétrécit et la structure métallique (14) comporte une nanopointe (15) destinée à concentrer au moins un plasmon et à délivrer des électrons. La structure métallique (14) comporte un élément de couplage (16) espacé de la nanopointe (15) et destiné à exciter le plasmon au moyen d’une onde électromagnétique (19).
(DE) Die Erfindung betrifft eine Elektronenquelle (10) zum Erzeugen eines Elektronenstrahls, mit einer Kathode (11). Um eine höhere zeitliche Auflösung und/oder einen geringeren Abstand zwischen der Elektronenquelle (10) und einer Probe zu ermöglichen, ist die Elektronenquelle dadurch gekennzeichnet, dass die Kathode (11) eine sich verjüngende metallische Struktur (14) aufweist und die metallische Struktur (14) eine Nanospitze (15) zum Fokussieren von mindestens einem Plasmon und zum Abgeben von Elektronen hat, wobei die metallische Struktur (14) beabstandet von der Nanospitze (15) ein Koppelelement (16) zum Anregen des Plasmon mittels einer elektromagnetischen Welle (19) hat.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)