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1. (WO2016192917) FILTRE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET CAPTEUR D'IMAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/192917 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/059957
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 04.05.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 5/22 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
20
Filtres
22
Filtres absorbants
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
BEARDA, Jelte, Rients; NL
KLUGKIST, Joost, André; NL
VOOGD, Robbert Jan; NL
HERGENHAN, Guido; NL
PANITZ, Meik; NL
TAUBERT, Jochen; NL
Mandataire :
KETTING, Alfred; NL
Données relatives à la priorité :
15170335.202.06.2015EP
Titre (EN) FILTER, METHOD OF FORMATION THEREOF, AND IMAGE SENSOR
(FR) FILTRE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET CAPTEUR D'IMAGE
Abrégé :
(EN) A method of forming a radiation filter for use in a lithographic system comprises obtaining a filter body and forming at least one structure in or on the body, wherein the at least one structure provides a filtering effect and least one of a), b), c) or d):- a) the at least one structure comprises a plurality of transmissive, reflective, absorbing or fluorescent structures, and the method comprises providing a desired distribution of the structures to provide a desired filtering effect; b) forming the at least one structure comprises forming at least one transmissive, absorbing, reflective or fluorescent layer that has a variable thickness; c) forming the at least one structure comprises altering at least one optical property to provide a variation of the optical property with position; d) the structure comprises a fluorescent layer that provides variation of at least one fluorescence property with position and/or angle of incidence.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un filtre de rayonnement, à utiliser dans un système lithographique, qui consiste à obtenir un corps de filtre et à former au moins une structure dans ou sur le corps, la ou les structures fournissant un effet de filtrage et moins un parmi a), b), c) ou d) : - a) la ou les structures comprennent une pluralité de structures à pouvoir de transmission, réfléchissantes, absorbantes ou fluorescentes, le procédé consistant à fournir une distribution souhaitée des structures pour obtenir un effet de filtrage souhaité ; b) la formation de la ou des structures comprend la formation d'au moins une couche à pouvoir de transmission réfléchissante, absorbante ou fluorescente dont l'épaisseur est variable ; c) la formation de la ou des structures comprend la modification d'au moins une propriété optique pour fournir une variation de la propriété optique avec la position ; d) la structure comprend une couche fluorescente qui fournit une variation d'au moins une propriété de fluorescence avec la position et/ou l'angle d'incidence.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)