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1. (WO2016192447) SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/192447    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/077489
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 28.03.2016
CIB :
H01L 27/12 (2006.01), H01L 21/77 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : KONG, Xiangyong; (CN).
HSIN, Lung Pao; (CN).
CHENG, Jun; (CN)
Mandataire : ZHONGZI LAW OFFICE; 7F, New Era Building, 26 Pinganli Xidajie, Xicheng District Beijing 100034 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510303435.8 04.06.2015 CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE AND METHOD FOR FABRICATION THEREOF AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided are an array substrate and method for fabrication thereof and a display device, the array substrate comprising: a base substrate (9); a first electrode pattern (11), second electrode pattern (12), and an active layer pattern (5) arranged on the base substrate; coating a first protection pattern (3) with a first electrode pattern, and coating a second protection pattern (4) with a second electrode pattern; the active layer pattern is arranged between the first electrode pattern and the second electrode pattern; the first electrode protection pattern and the second electrode protection pattern are connected to the two sides of the active layer pattern, respectively. Thus the problem of the surface of the material used by the first electrode pattern and the second electrode pattern having low resistance and being oxidized, and thereby causing it to be impossible for the active layer pattern to be connected to the first electrode pattern and the second electrode pattern, is avoided, and product yield is improved.
(FR)L'invention concerne un substrat matriciel et son procédé de fabrication ainsi qu'un dispositif d'affichage, le substrat matriciel comprenant : un substrat de base (9) ; un premier motif d'électrode (11), un second motif d'électrode (12) et un motif de couche active (5) disposés sur le substrat de base ; et le procédé consistant à revêtir un premier motif de protection (3) avec un premier motif d'électrode, et à revêtir un second motif de protection (4) avec un second motif d'électrode ; à disposer le motif de couche active entre le premier motif d'électrode et le second motif d'électrode ; à connecter respectivement le premier motif de protection d'électrode et le second motif de protection d'électrode aux deux côtés du motif de couche active. L'invention permet ainsi d'éviter le problème lié à la faible résistance et à l'oxydation de la surface du matériau utilisé par le premier motif d'électrode et le second motif d'électrode, et à l'impossibilité de connexion du motif de couche active au premier motif d'électrode et au second motif d'électrode, ce qui améliore le rendement du produit.
(ZH)一种阵列基板及其制备方法、显示装置,阵列基板包括:衬底基板(9),设置在衬底基板上的第一电极图案(11)、第二电极图案(12)和有源层图案(5),包覆第一电极图案的第一电极保护图案(3),以及包覆第二电极图案的第二电极保护图案(4);其中,有源层图案设置在第一电极图案和第二电极图案之间;第一电极保护图案和第二电极保护图案分别与有源层图案的两侧连接。避免了由于第一电极图案和第二电极图案采用低电阻特性的材料时,因其表面氧化导致有源层图案无法与第一电极图案和第二电极图案连接的问题,提高了产品的良率。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)