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1. (WO2016192359) ÉLÉMENT DE MICROPHONE MEMS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/192359 N° de la demande internationale : PCT/CN2015/096915
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 10.12.2015
CIB :
H04R 19/04 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
04
TECHNIQUE DE LA COMMUNICATION ÉLECTRIQUE
R
HAUT-PARLEURS, MICROPHONES, TÊTES DE LECTURE POUR TOURNE-DISQUES OU TRANSDUCTEURS ACOUSTIQUES ÉLECTROMÉCANIQUES ANALOGUES; APPAREILS POUR SOURDS; SYSTÈMES D'ANNONCE EN PUBLIC
19
Transducteurs électrostatiques
04
Microphones
Déposants :
歌尔声学股份有限公司 GOERTEK INC [CN/CN]; 中国山东省潍坊市 高新技术产业开发区东方路268号知识产权部/肖伟伟 IP/Xiao Weiwei No.268 Dongfang Road, Hi-Tech Industry District Weifang, Shandong 261031, CN
Inventeurs :
郑国光 ZHENG, Guoguang; CN
Données relatives à la priorité :
201510288675.529.05.2015CN
Titre (EN) MEMS MICROPHONE ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) ÉLÉMENT DE MICROPHONE MEMS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 一种MEMS麦克风元件及其制造方法
Abrégé :
(EN) Disclosed is an MEMS microphone element, comprising: a substrate, a first hole and a second hole that penetrate the substrate vertically being provided on the substrate; a first capacitor and a second capacitor that are arranged above the substrate in parallel, the first capacitor being arranged above the first hole, and the second capacitor being arranged above the second hole. The first capacitor comprises a first back electrode plate that is located below the first capacitor and a first vibration film located above the first capacitor and is opposite to the first back electrode plate, and the second capacitor comprises a second back electrode plate that is located above the second capacitor and a second vibration film that is located below the second capacitor and is opposite to the second back electrode plate. The first capacitor and the second capacitor form a pair of differential capacitors. The present invention implements a differential capacitive MEMS microphone, thereby facilitating removal of external electromagnetism and noise interference, and increasing the signal-to-noise ratio and the reception quality of an output signal. Also disclosed is a method of manufacturing an MEMS microphone element.
(FR) L’invention concerne un élément de microphone MEMS, comprenant : un substrat, un premier trou et un second trou qui pénètrent dans le substrat étant verticalement ménagés sur le substrat ; un premier condensateur et un second condensateur qui sont agencés au-dessus du substrat en parallèle, le premier condensateur étant agencé au-dessus du premier trou, et le second condensateur étant agencé au-dessus du second trou. Le premier condensateur comprend une première plaque d’électrode arrière qui est située au-dessous du premier condensateur et un premier film de vibration qui est situé au-dessus du premier condensateur et est opposé à la première plaque d’électrode arrière, et le second condensateur comprend une seconde plaque d’électrode arrière qui est située au-dessus du second condensateur et un second film de vibration qui est situé au-dessous du second condensateur et est opposé à la seconde plaque d’électrode arrière. Le premier condensateur et le second condensateur forment une paire de condensateurs différentiels. La présente invention met en œuvre un microphone MEMS capacitif différentiel, permettant ainsi de faciliter l’élimination de l’électromagnétisme externe et de l’interférence de bruit, et d’augmenter le rapport signal sur bruit et la qualité de réception d’un signal de sortie. La présente invention concerne également un procédé de fabrication d’un élément de microphone MEMS.
(ZH) 本发明公开了一种MEMS麦克风元件,包括:基底,基底上设置有上下贯通的第一开孔和第二开孔;并列设置于基底上方的第一电容和第二电容,第一电容设置在第一开孔之上,第二电容设置在第二开孔之上;第一电容包括位于下方的第一背极板以及位于上方的与第一背极板相对的第一振膜,第二电容包括位于上方的第二背极板以及位于下方的与第二背极板相对的第二振膜;第一电容和第二电容构成一对差分电容。本发明实现了差分电容式MEMS麦克风,有利于滤除外界电磁和噪声干扰,提高输出信号的信噪比和收音质量。本发明还公开了一种制造MEMS麦克风元件的方法。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)