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1. (WO2016192141) PLAQUE DE MASQUE POUR L'ÉVAPORATION THERMIQUE SOUS VIDE DE MATÉRIAUX DE DELO
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/192141 N° de la demande internationale : PCT/CN2015/082029
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 23.06.2015
CIB :
C23C 14/04 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
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Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
Déposants :
深圳市华星光电技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 光明新区塘明大道9-2号 NO.9-2, Tangming Road, Guangming District Shenzhen, Guangdong 518132, CN
Inventeurs :
匡友元 KUANG, Youyuan; CN
Mandataire :
深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区上步中路深勘大厦15E Room 15E, Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028, CN
Données relatives à la priorité :
201510299297.003.06.2015CN
Titre (EN) MASK PLATE FOR VACUUM THERMAL EVAPORATION OF OLED MATERIALS
(FR) PLAQUE DE MASQUE POUR L'ÉVAPORATION THERMIQUE SOUS VIDE DE MATÉRIAUX DE DELO
(ZH) OLED材料真空热蒸镀用掩膜板
Abrégé :
(EN) Provided is a mask plate for the vacuum thermal evaporation of OLED materials, which comprises a mask frame (1), an insert strip (3) fixed on the mask frame (1), and a mask (5) fixed on the insert strip (3); the mask frame (1) comprises four edges which enclose an opening corresponding to the mask (5); the surface of the side of the mask frame (1), which is close to the mask (5), is defined as the upper surface, and a groove (11) is provided on each edge of the mask frame (1); the insert strip (3) is fixed in the groove (11), and the upper surface of the insertion strip (3) and the upper surface of the groove (11) are on the same horizontal plane; the mask (5) is fixed on the insert strip (3) through spot welding, and welding spots (7) are located on the insert strip (3); the width of the upper surface of the insertion strip (3) is smaller than the width of the insert strip (3) located in the groove (11). When a mask is deformed and needs to be replaced, the insert strip can simply be removed for polishing or simply replacing the insert strip; the mask frame can be repeatedly used multiple times to reduce the scrapping amount of the mask frame and improve the utilization ratio of the mask frame, and at the same time reduce the number of backup mask frames, thus saving materials and production costs; and the tension of the mask can be transferred to the mask frame to the maximum extent, so as to ensure that the insertion strip is not deformed and the mask is stressed uniformly.
(FR) L'invention concerne une plaque de masque pour l'évaporation thermique sous vide de matériaux de DELO, qui comprend un cadre (1) de masque, une bande (3) d'insertion fixée sur le cadre (1) de masque, et un masque (5) fixé sur la bande (3) d'insertion ; le cadre (1) de masque comporte quatre bords qui enserrent une ouverture correspondant au masque (5) ; la surface du côté du cadre (1) de masque, qui se trouve à proximité du masque (5), est définie comme surface supérieure, et une rainure (11) est ménagée sur chaque bord du cadre (1) de masque ; la bande (3) d'insertion est fixée dans la rainure (11), et la surface supérieure de la bande (3) d'insertion ainsi que la surface supérieure de la rainure (11) sont situées dans le même plan horizontal ; le masque (5) est fixé sur la bande (3) d'insertion par soudage par points, et des points (7) de soudage sont situés sur la bande (3) d'insertion ; la largeur de la surface supérieure de la bande (3) d'insertion est inférieure à la largeur de la bande (3) d'insertion située dans la rainure (11). Lorsqu'un masque est déformé et doit être remplacé, la bande d'insertion peut simplement être retirée en vue du polissage ou simplement du remplacement de la bande d'insertion ; l'utilisation du cadre de masque peut être répétée de multiples fois afin de réduire la quantité de déchets issus du cadre de masque et d'améliorer son taux d'utilisation, et par la même occasion de réduire le nombre de cadres de masque de secours, ce qui permet d'économiser sur les matériaux et les coûts de production ; et la tension du masque peut être transférée au maximum sur le cadre du masque, de manière à garantir que la bande d'insertion n'est pas déformée et que le masque est sollicité de manière uniforme.
(ZH) 一种OLED材料真空热蒸镀用掩膜板,包括掩膜边框(1)、固定于所述掩膜边框(1)上的插条(3)及固定于所述插条(3)上的掩膜(5);所述掩膜边框(1)包括四条边,该四条边围拢出一对应掩膜(5)的开口;将所述掩膜边框(1)靠近掩膜(5)一侧的表面定义为上表面,掩膜边框(1)的每条边上均设置一沟槽(11);所述插条(3)固定于所述沟槽(11)内,所述插条(3)的上表面与所述沟槽(11)的上表面处于同一平面上;所述掩膜(5)通过点焊固定于插条(3)上,焊点(7)位于插条(3)上;所述插条(3)的上表面的宽度小于所述插条(3)位于所述沟槽(11)内的宽度;当掩膜变形需要更换时,仅需将插条取出进行抛光或更换插条即可,掩膜边框能够重复多次使用,减少掩膜边框的报废量,提高掩膜边框的利用率,同时能够减少掩膜边框的备份数量,节约材料及生产成本;掩膜张力可以最大程度传递到掩膜边框上,保证插条不形变及掩膜受力均匀。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)