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1. (WO2016191482) IMAGERIE DE POINT CHAUD OU DE DÉFAUT À GRANDE VITESSE AVEC UN SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/191482 N° de la demande internationale : PCT/US2016/034132
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 25.05.2016
CIB :
G01N 23/225 (2006.01) ,H01J 31/54 (2006.01) ,G01N 21/95 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
22
en mesurant l'émission secondaire
225
en utilisant une microsonde électronique ou ionique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
31
Tubes à rayons cathodiques ou tubes à faisceau électronique
08
comprenant un écran, sur lequel ou à partir duquel une image ou un dessin sont formés, pris, convertis ou mis en mémoire
50
Tubes convertisseurs d'image ou amplificateurs d'image, c. à d. comprenant un signal d'entrée optique, à rayons X ou analogue, et un signal de sortie optique
54
dans lesquels le faisceau électronique est réfléchi par l'écran d'image d'entrée sur l'écran d'image de sortie
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
XIAO, Hong; US
MAHER, Christopher; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
Données relatives à la priorité :
15/162,24923.05.2016US
62/166,24526.05.2015US
Titre (EN) HIGH-SPEED HOTSPOT OR DEFECT IMAGING WITH A CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM
(FR) IMAGERIE DE POINT CHAUD OU DE DÉFAUT À GRANDE VITESSE AVEC UN SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé :
(EN) An inspection tool includes a controller that is configured to generate a scan pattern for an electron beam to image areas of interest on the wafer. The scan pattern minimizes dwell time of the electron beam on the surface of the wafer between the areas of interest. At least one stage speed and at least one raster pattern can be selected based on the areas of interest. The controller sends instructions to electron beam optics to direct the electron beam at the areas of interest on the surface of the wafer using the scan pattern.
(FR) L'invention concerne un outil d'inspection comprenant un dispositif de commande configuré pour générer un motif de balayage pour un faisceau d'électrons pour imager des zones d'intérêt sur une tranche. Le motif de balayage minimise le temps d'arrêt du faisceau d'électrons sur la surface de la tranche entre les zones d'intérêt. Au moins une vitesse de plateau et au moins un motif de trame peuvent être sélectionnés en se basant sur les zones d'intérêt. Le dispositif de commande envoie des instructions à un système optique à faisceau d'électrons pour diriger le faisceau d'électrons au niveau des zones d'intérêt sur la surface de la tranche au moyen du motif de balayage.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)