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1. (WO2016191424) NOUVEAUX ACCEPTEURS DE FLUORURE DE SILICIUM HÉTÉROAROMATIQUES POUR MARQUAGE 18F DE MOLÉCULES ET DE BIOMOLÉCULES, ET PROCÉDÉS DE PRÉPARATION CORRESPONDANTS
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N° de publication : WO/2016/191424 N° de la demande internationale : PCT/US2016/033923
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 24.05.2016
CIB :
C07F 7/08 (2006.01) ,C07F 13/00 (2006.01) ,C07F 19/00 (2006.01) ,A61K 51/04 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7
Composés contenant des éléments du 4ème groupe de la classification périodique
02
Composés du silicium
08
Composés comportant une ou plusieurs liaisons C-Si
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
13
Composés contenant des éléments du 7ème groupe de la classification périodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
19
Composés métalliques couverts par plus d'un des groupes principaux C07F1/-C07F17/119
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
51
Préparations contenant des substances radioactives utilisées pour la thérapie ou pour l'examen in vivo
02
caractérisées par le support
04
Composés organiques
Déposants :
THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street, Twelfth Floor Oakland, CA 94607-5200, US
Inventeurs :
WALDMANN, Christopher, Martin; US
TOUTOV, Anton, A.; US
MURPHY, Jennifer, Marie; US
GRUBBS, Robert, H.; US
Mandataire :
GHIDU, Victor P.; US
Données relatives à la priorité :
62/166,24026.05.2015US
Titre (EN) NOVEL HETEROAROMATIC SILICON-FLUORIDE-ACCEPTORS USEFUL FOR 18F LABELING OF MOLECULES AND BIOMOLECULES, AND METHODS OF PREPARING SAME
(FR) NOUVEAUX ACCEPTEURS DE FLUORURE DE SILICIUM HÉTÉROAROMATIQUES POUR MARQUAGE 18F DE MOLÉCULES ET DE BIOMOLÉCULES, ET PROCÉDÉS DE PRÉPARATION CORRESPONDANTS
Abrégé :
(EN) The present invention includes novel compounds and compositions including heteroaromatic Silicon-Fluoride- Acceptors, which are useful for PET scanning. The present invention further includes a novel method of 18F imaging for PET scanning, the method comprising the preparation of conjugates and bioconjugates of biological ligands of interest with heteroaromatic SiFAs. In one embodiment the invention is practiced in the form of a kit.
(FR) La présente invention concerne de nouveaux composés et de nouvelles compositions comprenant des accepteurs de fluorure de silicium hétéroaromatiques, utiles pour une TEP. La présente invention concerne en outre un nouveau procédé d'imagerie 18F pour une TEP, le procédé comprenant la préparation de conjugués et de bioconjugués de ligands biologiques d'intérêt avec des accepteurs de fluorure de silicium hétéroaromatiques. Dans un mode de réalisation, l'invention est mise en œuvre sous la forme d'un kit.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)