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1. (WO2016191189) MÉTROLOGIE OPTIQUE UTILISANT UN RACCORD DIFFÉRENTIEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/191189    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/033243
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 19.05.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NANOMETRICS INCORPORATED [US/US]; 1550 Buckeye Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : VAGOS, Pedro; (FR)
Mandataire : HALBERT, Michael J.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/720,644 22.05.2015 US
Titre (EN) OPTICAL METROLOGY USING DIFFERENTIAL FITTING
(FR) MÉTROLOGIE OPTIQUE UTILISANT UN RACCORD DIFFÉRENTIEL
Abrégé : front page image
(EN)Parameters of a sample are measured using a model-based approach that utilizes the difference between experimental spectra acquired from the sample and experimental anchor spectra acquired from one or more reference samples at the same optical metrology tool. Anchor parameters of the one or more reference samples are determined using one or more reference optical metrology tools. The anchor spectrum is obtained and the target spectrum for the sample is acquired using the optical metrology tool. A differential experimental spectrum is generated based on a difference between the target spectrum and the anchor spectrum. The parameters for the sample are determined using the differential experimental spectrum and the anchor parameters, e.g., by comparing the differential experimental spectrum to a differential simulated spectrum, which is based on a difference between spectra simulated using a model having the parameters and a spectrum simulated using a model having the anchor parameters.
(FR)Selon l'invention, des paramètres d'un échantillon sont mesurés à l'aide d'une approche, basée sur un modèle, qui utilise la différence entre des spectres expérimentaux acquis à partir de l'échantillon et des spectres d'ancrage expérimentaux acquis à partir d'un ou de plusieurs échantillons de référence avec le même outil de métrologie optique. Les paramètres d'ancrage du ou des échantillons de référence sont déterminés à l'aide d'un ou de plusieurs outils de métrologie optique de référence. Le spectre d'ancrage est obtenu et le spectre cible pour l'échantillon est acquis à l'aide de l'outil de métrologie optique. Un spectre expérimental différentiel est généré sur la base d'une différence entre le spectre cible et le spectre d'ancrage. Les paramètres pour l'échantillon sont déterminés à l'aide du spectre expérimental différentiel et des paramètres d'ancrage, par exemple, en comparant le spectre expérimental différentiel avec un spectre simulé différentiel, qui repose sur une différence entre des spectres simulés à l'aide d'un modèle qui présente les paramètres et un spectre simulé à l'aide d'un modèle qui présente les paramètres d'ancrage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)