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1. (WO2016191040) GESTION DU PH D'EFFLUENT RECHARGEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/191040    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/030312
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 29.04.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.03.2017    
CIB :
A61M 1/16 (2006.01), B01J 20/06 (2006.01), B01J 20/34 (2006.01), B01J 20/02 (2006.01)
Déposants : MEDTRONIC, INC. [US/US]; 710 Medtronic Parkway, NE Minneapolis, MN 55432 (US)
Inventeurs : MENON, Kanjimpuredathil, Muralikrishna; (IN).
JEYACHANDRAN, Ramkumar; (IN).
DUTTA, Sukalyan; (IN).
HOBOT, Christopher, M.; (US).
LURA, David, B.; (US)
Mandataire : HAHN, Roger; (US)
Données relatives à la priorité :
14/722,119 26.05.2015 US
14/722,068 26.05.2015 US
Titre (EN) MANAGEMENT OF RECHARGER EFFLUENT PH
(FR) GESTION DU PH D'EFFLUENT RECHARGEUR
Abrégé : front page image
(EN)Systems and methods for managing effluent from recharging zirconium phosphate and/or zirconium oxide are provided. The systems and methods control the pH of the zirconium phosphate and zirconium oxide effluent to allow for safe disposal. The systems and methods provide for management of the recharger effluent pH while recharging zirconium phosphate and zirconium oxide either independently or concurrently.
(FR)L'invention concerne des systèmes et des procédés de gestion d'effluent de recharge de phosphate de zirconium et/ou d'oxyde de zirconium. Les systèmes et les procédés contrôlent le pH de l'effluent de phosphate de zirconium et d'oxyde de zirconium afin de permettre une évacuation sans danger. Les systèmes et les procédés supportent la gestion du pH d'effluent rechargeur tout en rechargeant le phosphate de zirconium et l'oxyde de zirconium soit indépendamment soit simultanément.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)