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1. (WO2016190259) GRAPHÈNE À FAIBLE RÉFLEXION, ET GRAPHÈNE À FAIBLE RÉFLEXION DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN ÉLÉMENT OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/190259 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/065082
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 20.05.2016
CIB :
G02B 1/116 (2015.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,C01B 31/02 (2006.01) ,C23C 16/26 (2006.01)
[IPC code unknown for G02B 1/116]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9
Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
31
Carbone; Ses composés
02
Préparation du carbone; Purification
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
22
caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
26
Dépôt uniquement de carbone
Déposants :
尾池工業株式会社 OIKE & CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市下京区仏光寺通西洞院西入木賊山町181 181, Tokusayama-cho, Nishinotoin Nishi-iru, Bukkoji-dori, Shimogyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6008461, JP
国立研究開発法人産業技術総合研究所 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号 3-1 Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008921, JP
Inventeurs :
嶋田 那由太 SHIMADA Nayuta; JP
矢沢 健児 YAZAWA Kenji; JP
山田 貴壽 YAMADA Takatoshi; JP
長谷川 雅考 HASEGAWA Masataka; JP
植草 和輝 UEKUSA Kazuteru; JP
Mandataire :
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ Takahashi, Hayashi and Partner Patent Attorneys, Inc.; JP
Données relatives à la priorité :
2015-10418622.05.2015JP
Titre (EN) LOW-REFLECTION GRAPHENE AND LOW-REFLECTION GRAPHENE FOR OPTICAL MEMBER USE
(FR) GRAPHÈNE À FAIBLE RÉFLEXION, ET GRAPHÈNE À FAIBLE RÉFLEXION DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) 低反射グラフェン、光学部材用低反射グラフェン
Abrégé :
(EN) Provided is a low-reflection graphene of which the total reflectance is 1.5% or less in the wavelength range of 200-2000 nm, inclusive. Furthermore, the low-reflection graphene has a first graphene layer that has a surface approximately parallel to a first direction and a second graphene layer that is connected to the first graphene layer and is oriented in a second direction that intersects the first direction.
(FR) La présente invention concerne un graphène à faible réflexion dont la réflectance totale est de 1,5 % ou moins dans la gamme de longueurs d'onde de 200 à 2 000 nm inclus. En outre, le graphène à faible réflexion comprend une première couche de graphène qui a une surface à peu près parallèle à une première direction, ainsi qu'une seconde couche de graphène qui est reliée à la première couche de graphène et qui est orientée dans une seconde direction croisant la première direction.
(JA) 波長200nm以上2000nm以下の範囲において、全光線反射率が、1.5%以下である低反射グラフェンが提供される。また、低反射グラフェンは、第1の方向に略平行な面を有する第1のグラフェン層と、前記第1のグラフェン層に接続し、前記第1の方向と交差する第2の方向に配向した第2のグラフェン層と、を有する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)