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1. (WO2016190081) FILM DE COMPOSITION DE RÉSINE À BASE DE CYCLOOLÉFINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/190081 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/063847
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 10.05.2016
CIB :
C08L 45/00 (2006.01) ,C08L 53/02 (2006.01) ,C08L 65/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
45
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés ne possédant pas de radicaux aliphatiques non saturés dans une chaîne latérale et contenant une ou plusieurs liaisons doubles carbone-carbone dans un système carbocyclique ou hétérocyclique; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
53
Compositions contenant des copolymères séquencés possédant au moins une séquence d'un polymère obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
02
contenant des monomères vinylaromatiques et des diènes conjugués
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
65
Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison carbone-carbone dans la chaîne principale; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
Déposants : DEXERIALS CORPORATION[JP/JP]; Gate City Osaki, East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032, JP
Inventeurs : HOSOYA, Ken; JP
HORII, Akihiro; JP
NUMAKURA, Shinichi; JP
TAKAHASHI, Yasuhiro; JP
SATAKE, Yutaka; JP
OBATA, Kei; JP
MAEKAWA, Yoshiyuki; JP
ISHIMORI, Taku; JP
Mandataire : NOGUCHI, Nobuhiro; JP
Données relatives à la priorité :
2015-10860528.05.2015JP
2016-08984027.04.2016JP
Titre (EN) FILM OF CYCLOOLEFIN-BASED RESIN COMPOSITION
(FR) FILM DE COMPOSITION DE RÉSINE À BASE DE CYCLOOLÉFINE
(JA) 環状オレフィン系樹脂組成物フィルム
Abrégé :
(EN) Provided is a film of a cycloolefin-based resin composition, the film having few defects. The film of a cycloolefin-based resin composition comprises a cycloolefin-based resin and an antioxidant, the antioxidant satisfying at least one of the following requirements (1) to (3). (1) To have a lithium ion content of 0.4 ppm or less. (2) To have a cation content of 0.9 ppm or less. (3) To have a chloride ion content of 0.1 ppm or less.
(FR) La présente invention concerne un film d'une composition de résine à base de cyclooléfine, ledit film ne présentant que peu de défauts. Ledit film d'une composition de résine à base de cyclooléfine comprend une résine à base de cyclooléfine et un antioxydant, ledit antioxydant satisfaisant à au moins une des exigences (1) à (3) suivantes. (1) Présenter une teneur en ions lithium inférieure ou égale à 0,4 ppm. (2) Présenter une teneur en cations inférieure ou égale à 0,9 ppm. (3) Présenter une teneur en ions chlorure inférieure ou égale à 0,1 ppm.
(JA) 欠陥が少ない環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを提供する。 環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、環状オレフィン系樹脂と酸化防止剤とを含有し、上記酸化防止剤が以下の(1)~(3)の条件の少なくとも1つを満たす。 (1)上記酸化防止剤に含まれるリチウムイオンの含有量が0.4ppm以下である。 (2)上記酸化防止剤に含まれる陽イオンの含有量が0.9ppm以下である。 (3)上記酸化防止剤に含まれる塩化物イオンの含有量が0.1ppm以下である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)