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1. (WO2016190047) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE COMPRENANT UNE COUCHE DE TRAITEMENT DE SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/190047    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/063273
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 27.04.2016
CIB :
B32B 9/00 (2006.01), C03C 17/42 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01), C23C 16/56 (2006.01)
Déposants : DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323 (JP)
Inventeurs : MITSUHASHI, Hisashi; (--).
OZAWA, Kaori; (--).
NOSE, Masatoshi; (--).
ITAMI, Yasuo; (--).
MORISHIMA, Masato; (JP).
WANG, Mengyi; (JP).
YAMADA, Kazuki; (JP).
FUSE, Takashi; (JP).
OKKOTSU, Madoka; (JP)
Mandataire : SAMEJIMA, Mutsumi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-104191 22.05.2015 JP
2015-235649 02.12.2015 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE HAVING SURFACE TREATMENT LAYER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE COMPRENANT UNE COUCHE DE TRAITEMENT DE SURFACE
(JA) 表面処理層を有する物品の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for manufacturing an article having a substrate, a silicon oxide layer positioned on the substrate, and a surface treatment layer formed on the silicon oxide layer, the manufacturing method including the steps of forming the silicon oxide layer using a chemical vapor deposition method, and forming the surface treatment layer on the resultant silicon oxide layer using a surface treatment agent including a fluorine-containing silane compound.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un article comprenant un substrat, une couche d'oxyde de silicium positionnée sur le substrat et une couche de traitement de surface formée sur la couche d'oxyde de silicium, le procédé de fabrication comprenant les étapes consistant à former la couche d'oxyde de silicium au moyen d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur et à former la couche de traitement de surface sur la couche d'oxyde de silicium obtenue au moyen d'un agent de traitement de surface comprenant un composé de silane contenant du fluor.
(JA)本発明は、基材と、該基材上に位置するケイ素酸化物層と、該ケイ素酸化物層上に形成された表面処理層とを有して成る物品の製造方法であって、化学気相成長法を用いて、ケイ素酸化物層を形成すること、および得られたケイ素酸化物層上に、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて、表面処理層を形成することを含む製造方法に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)