Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2016190036) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA L'UTILISANT

Pub. No.:    WO/2016/190036    International Application No.:    PCT/JP2016/063129
Publication Date: Fri Dec 02 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Thu Apr 28 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 21/3065
H01L 21/336
H01L 21/8247
H01L 27/115
H01L 29/788
H01L 29/792
H05H 1/46
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
株式会社 日立ハイテクノロジーズ
Inventors: KOFUJI Naoyuki
小藤 直行
MORI Masahito
森 政士
NISHIDA Toshiaki
西田 敏明
HAMASAKI Ryoji
濱崎 良二
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA L'UTILISANT
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de traitement au plasma pouvant effectuer à la fois une étape d'irradiation de radicaux et une étape d'irradiation d'ions par un dispositif et pouvant commander l'énergie d'irradiation d'ions dans une plage de plusieurs dizaines d'eV à plusieurs K eV. Le dispositif de traitement au plasma comprend : un mécanisme (125, 126, 131, 132) pour générer un plasma couplé de manière inductive; une plaque poreuse (116) pour diviser une chambre de traitement de dépressurisation en une région supérieure (106-1) et en une région inférieure (106-2) et bloquer des ions; et un commutateur (133) pour commuter entre la région supérieure (106-1) et la région inférieure (106-2) sous forme d'une région de génération de plasma.