WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016189762) FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/189762    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/080694
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 30.10.2015
CIB :
H01B 5/14 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01)
Déposants : NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-2, Shimohozumi 1-chome, Ibaraki-shi, Osaka 5678680 (JP)
Inventeurs : KATO, Daiki; (JP).
FUJINO, Nozomi; (JP).
NASHIKI, Tomotake; (JP)
Mandataire : KUSUMOTO, Takayoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-107003 27.05.2015 JP
2015-203740 15.10.2015 JP
Titre (EN) TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
(FR) FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT
(JA) 透明導電性フィルム
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To realize a transparent conductive film which has high scratch resistance and in which crystallization of a transparent conductive layer is completed in a short time. [Solution] Provided is a transparent conductive film 10 in which a hard coating layer 12, an optical adjustment layer 13, and a transparent conductive layer 14 are laminated in this order on a transparent substrate film 11. The thickness of the hard coating layer 12 is 250-2000 nm, and the thickness of the optical adjustment layer 13 is 2-10% of the thickness of the hard coating layer. The crystallization of the transparent conductive layer 14 is completed by heat treatment at 140°C for 30 minutes, for example.
(FR)L’invention fournit un film conducteur transparent qui présente une résistance à l’abrasion élevée, et avec lequel la cristallisation d’une couche conductrice transparente s’accomplit en une courte durée. Ce film conducteur transparent (10) est tel qu’une couche de revêtement dur (12), une couche d’ajustement optique (13) et la couche conductrice transparente (14) sont stratifiées dans cet ordre sur un film de matériau de base (11) transparent. L’épaisseur de la couche de revêtement dur (12) est comprise entre 250 et 2000nm, et l’épaisseur de la couche d’ajustement optique (13) est comprise entre 2 et 10% de l’épaisseur de la couche de revêtement dur (12). La cristallisation de la couche conductrice transparente (14), s’accomplit, par exemple, au moyen d’un traitement thermique de 30 minutes à 140°C.
(JA)【課題】耐擦傷性が高く、透明導電層の結晶化が短時間で完了する透明導電性フィルムを実現する。 【解決手段】透明な基材フィルム11上に、ハードコート層12と、光学調整層13と、透明導電層14がこの順に積層された透明導電性フィルム10。ハードコート層12の厚さが250nm~2000nmであり、光学調整層13の厚さがハードコート層の厚さの2%~10%である。透明導電層14の結晶化は、例えば、140℃、30分の熱処理により完了する。 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)