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1. (WO2016189614) DISPOSITIF DE GRAVURE IONIQUE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE IONIQUE

Pub. No.:    WO/2016/189614    International Application No.:    PCT/JP2015/064884
Publication Date: Fri Dec 02 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Tue May 26 01:59:59 CEST 2015
IPC: H01J 37/30
H01J 27/04
H01J 37/08
H01J 37/305
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
株式会社日立ハイテクノロジーズ
Inventors: TANI Yuki
谷 友樹
TAKASU Hisayuki
高須 久幸
TAKEUCHI Shuichi
竹内 秀一
Title: DISPOSITIF DE GRAVURE IONIQUE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE IONIQUE
Abstract:
La présente invention aborde le problème de réalisation : d’un dispositif de gravure ionique (100) pouvant traiter un matériau déposé collé sur un canon à ions (1) ; et d’un procédé de gravure ionique pouvant traiter le matériau déposé collé sur le canon à ions (1). La présente invention porte sur les attributs selon lesquels : le dispositif de gravure ionique (100) comporte un moyen d’éjection de gaz (2) qui éjecte un gaz vers le canon à ions (1) ; et le matériau collé au canon à ions (1) est déplacé par l’éjection du gaz vers l’intérieur du canon à ions (1) par le moyen d’éjection de gaz (2) qui est comporté par le dispositif de gravure ionique (100).