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1. (WO2016189614) DISPOSITIF DE GRAVURE IONIQUE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE IONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/189614    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/064884
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 25.05.2015
CIB :
H01J 37/30 (2006.01), H01J 27/04 (2006.01), H01J 37/08 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventeurs : TANI Yuki; (JP).
TAKASU Hisayuki; (JP).
TAKEUCHI Shuichi; (JP)
Mandataire : ISONO INTERNATIONAL PATENT OFFICE, P.C.; Hulic Toranomon Building, 1-18, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ION MILLING DEVICE AND ION MILLING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE IONIQUE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE IONIQUE
(JA) イオンミリング装置、及びイオンミリング方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing: an ion milling device (100) capable of treating a deposited material adhered on an ion gun (1); and an ion milling method capable of treating the deposited material adhered on the ion gun (1). The present invention relates to the features wherein: the ion milling device (100) is provided with a gas jetting means (2) that jets a gas toward the ion gun (1); and the material adhered on the ion gun (1) is moved by jetting the gas toward the inside of the ion gun (1) using the gas jetting means (2) that is provided to the ion milling device (100).
(FR)La présente invention aborde le problème de réalisation : d’un dispositif de gravure ionique (100) pouvant traiter un matériau déposé collé sur un canon à ions (1) ; et d’un procédé de gravure ionique pouvant traiter le matériau déposé collé sur le canon à ions (1). La présente invention porte sur les attributs selon lesquels : le dispositif de gravure ionique (100) comporte un moyen d’éjection de gaz (2) qui éjecte un gaz vers le canon à ions (1) ; et le matériau collé au canon à ions (1) est déplacé par l’éjection du gaz vers l’intérieur du canon à ions (1) par le moyen d’éjection de gaz (2) qui est comporté par le dispositif de gravure ionique (100).
(JA)本発明は、イオンガン(1)に付着した堆積物の処理が可能なイオンミリング装置(100)、及びイオンガン(1)に付着した堆積物の処理が可能なイオンミリング方法を提供することを課題とし、イオンミリング装置(100)が、イオンガン(1)に向けてガスを噴射するガス噴射手段(2)を備えること、また、イオンミリング装置(100)が備えるガス噴射手段(2)により前記イオンガン(1)の内部に向けてガスを噴射して、前記イオンガン(1)に付着した付着物を移動させることに関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)