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1. (WO2016188938) PHOTOCHIMIE À HAUTE RÉSOLUTION EN DESSOUS DE LA LIMITE DE DIFFRACTION AU MOYEN D'UNE PHOTOÉNOLISATION COMMANDABLE

Pub. No.:    WO/2016/188938    International Application No.:    PCT/EP2016/061523
Publication Date: Fri Dec 02 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Tue May 24 01:59:59 CEST 2016
IPC: G03F 7/00
G03F 7/031
G03F 7/20
Applicants: KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE
Inventors: FISCHER, Joachim
RICHTER, Benjamin
QUICK, Alexander
MÜLLER, Jonathan
BASTMEYER, Martin
BARNER-KOWOLLIK, Christopher
WEGENER, Martin
Title: PHOTOCHIMIE À HAUTE RÉSOLUTION EN DESSOUS DE LA LIMITE DE DIFFRACTION AU MOYEN D'UNE PHOTOÉNOLISATION COMMANDABLE
Abstract:
L'invention concerne un procédé de mise en oeuvre de réactions chimiques, en particulier de lithographie optique, en dessous de la limite de diffraction, dans lequel a) un mélange de substances contenant ou étant constitué de : (i) au moins un photoénol, (ii) éventuellement au moins un partenaire réactionnel, (iii) éventuellement un solvant ou un mélange de solvants, (iv) éventuellement des adjuvants supplémentaires, est préparé, b) la réaction partant du photoénol est amorcée par exposition à de la lumière, de préférence d'un laser, d'une première longueur d'onde activant le photoénol à un endroit sélectionné et simultanément ou ensuite c) la réaction partant du photoénol est stoppée par exposition à de la lumière, de préférence d'un laser, d'une deuxième longueur d'onde désactivant le photoénol dans l'environnement immédiat de l'endroit sélectionné, un motif d'interférence qui, à l'endroit sélectionné, a un minimum d'intensité ou n'a aucune intensité étant généré par la lumière de désexcitation incidente. L'invention concerne également l'utilisation de photoénols pour des réactions photochimiques, par exemple dans des vernis, pour la lithographie optique en dessous de la limite de diffraction, un procédé de réduction de l'échelle de grandeur de la lithographie et/ou de la résolution de la lithographie dans le cas de la lithographie optique et l'utilisation pour certains domaines techniques, ainsi qu'un vernis pour réactions photochimiques, par exemple pour lithographie optique, en dessous de la limite de diffraction.