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1. (WO2016188934) OPTIQUE DE REPRÉSENTATION POUR REPRÉSENTER UN CHAMP D'OBJET DANS UN CHAMP D'IMAGE ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION POURVU D'UNE OPTIQUE DE REPRÉSENTATION DE CE TYPE

Pub. No.:    WO/2016/188934    International Application No.:    PCT/EP2016/061516
Publication Date: Fri Dec 02 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Tue May 24 01:59:59 CEST 2016
IPC: G02B 17/06
G02B 5/00
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: SCHWAB, Markus
ROSTALSKI, Hans-Jürgen
Title: OPTIQUE DE REPRÉSENTATION POUR REPRÉSENTER UN CHAMP D'OBJET DANS UN CHAMP D'IMAGE ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION POURVU D'UNE OPTIQUE DE REPRÉSENTATION DE CE TYPE
Abstract:
L'invention concerne une optique de représentation pour la lithographie par projection, possédant une pluralité de miroirs (M9, M10) pour la représentation d'un champ d'objet situé dans un plan d'objet dans un champ d'image (8) situé dans un plan d'image (9) avec une lumière de représentation (3) dirigée le long d'un trajet du faisceau de représentation entre le champ d'objet et le champ d'image (8). L'avant dernier miroir (M9) dans le sens du trajet de faisceau ne possède pas d'ouverture de pénétration pour la pénétration de la lumière de représentation (3). L'optique de représentation possède au moins un obturateur (AS) pour la prédétermination d'un contour périphérique extérieur d'une pupille de l'optique de représentation. L'obturateur (AS) est disposé spatialement entre l'avant dernier miroir (M9) dans le sens du trajet de faisceau et un dernier miroir (M10) dans le sens du trajet de faisceau. Sous un premier aspect, l'optique de représentation possède exactement un obturateur pour la prédétermination d'au moins une section du contour périphérique extérieur des pupilles. Sous un autre aspect, une pupille d'entrée de l'optique de représentation est disposée dans le trajet de faisceau de la lumière de représentation (3) avant le champ d'objet. Il en résulte à chaque fois une optique de représentation qui est bien définie au niveau de sa pupille et optimisée pour la lithographie par projection.