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1. (WO2016188803) SYSTÈME D'USINAGE DE MATÉRIAU AU LASER ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE LA GRANDEUR ET DE LA POSITION D'UN POINT FOCAL DE LASER

Pub. No.:    WO/2016/188803    International Application No.:    PCT/EP2016/061036
Publication Date: Fri Dec 02 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Wed May 18 01:59:59 CEST 2016
IPC: B23K 26/06
G02B 27/09
G02B 19/00
Applicants: SCANLAB GMBH
Inventors: BECKER, Martin
THUNICH, Sebastian
VALENTIN, Martin
Title: SYSTÈME D'USINAGE DE MATÉRIAU AU LASER ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE LA GRANDEUR ET DE LA POSITION D'UN POINT FOCAL DE LASER
Abstract:
L'invention concerne un système d'usinage de matériau au laser comprenant une optique de collimation (K) présentant une distance focale totale de collimation (fK), constituée d'une amenée de faisceau (Z) pour des faisceaux divergents (D), d'un premier et d'un deuxième dispositif optique (L1, L2) présentant une distance focale (f1, f2) positive ou négative, les faisceaux divergents (D) traversant tout d'abord le premier dispositif optique puis le deuxième dispositif optique (L1, L2 ), et quittant le deuxième dispositif optique (L2) en étant collimatés, d'un troisième dispositif optique (0) agencé en aval de l'optique de collimation (K) et présentant une distance focale positive (fO), qui focalise les faisceaux (P) sortant collimatés de l'optique de collimation (K) sur un point focal (F), d'un premier et d'un deuxième élément de commande (A1, A2) destinés au déplacement du premier ou du deuxième dispositif optique (L1, L2) indépendamment l'un de l'autre le long d'une direction de propagation de faisceau (R), un trajet total de faisceau (gs) entre l'amenée de faisceau (Z) et d'un plan focal (B) côté image du troisième dispositif optique (O) étant inférieur au double de la somme de la distance focale positive (fO) du troisième dispositif optique (O) et de la distance focale de collimation totale (fK).