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1. (WO2016188378) DISPOSITIF DE MESURE ET PROCÉDÉ DE MESURE DE COUCHE MINCE COMPRENANT UN SUBSTRAT TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/188378    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/082867
Date de publication : 01.12.2016 Date de dépôt international : 20.05.2016
CIB :
G01N 21/21 (2006.01)
Déposants : SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203 (CN)
Inventeurs : LIU, Hao; (CN).
ZHOU, Yuying; (CN)
Mandataire : SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510270033.2 24.05.2015 CN
Titre (EN) MEASUREMENT DEVICE AND MEASUREMENT METHOD FOR THIN FILM PROVIDED WITH TRANSPARENT SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE ET PROCÉDÉ DE MESURE DE COUCHE MINCE COMPRENANT UN SUBSTRAT TRANSPARENT
(ZH) 一种具有透明基底的薄膜的测量装置及测量方法
Abrégé : front page image
(EN)A measurement device for a thin film provided with a transparent substrate comprises a light source (1), a collimation lens (2), a filter (3), a polarizer (4), a light splitting element (5), and an objective lens (7) along a light path propagation direction. The light splitting element (5) is connected to a flat-panel detector (11) and a processor (13). Light emitted by the light source (1) sequentially passes through the collimation lens (2), the filter (3), the polarizer (4), the light splitting element (5) and the objective lens (7), and then forms measurement light that enters a thin film provided with a transparent substrate; the objective lens (7) and the light splitting element (5) collect reflective light from the thin film provided with a transparent substrate, and the flat-panel detector (11) and the processor (13) measure a physical parameter of the thin film provided with a transparent substrate according to the collected reflective light. The measurement device also comprises a shielding diaphragm used for removing reflective light that is generated due to the transparent substrate during the measurement and that interferes with the measurement.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure pour une couche mince comprenant un substrat transparent, qui comprend une source de lumière (1), une lentille de collimation (2), un filtre (3), un polariseur (4), un élément de division de lumière (5), et un objectif (7) le long d'une direction de propagation de trajet de lumière. L'élément de division de lumière (5) est relié à un détecteur à panneau plat (11) et à un processeur (13). La lumière émise par la source de lumière (1) passe séquentiellement à travers la lentille de collimation (2), le filtre (3), le polariseur (4), l'élément de division de lumière (5) et l'objectif (7), et forme ensuite une lumière de mesure qui pénètre dans une couche mince comprenant un substrat transparent; la lentille d'objectif (7) et l'élément de division de lumière (5) collectent la lumière de réflexion provenant de la couche mince comprenant un substrat transparent, et le détecteur à panneau plat (11) et le processeur (13) mesurent un paramètre physique de la couche mince comprenant un substrat transparent en fonction de la lumière de réflexion collectée. Le dispositif de mesure comprend également un diaphragme de protection utilisé pour éliminer une lumière de réflexion qui est générée en raison du substrat transparent pendant la mesure et qui interfère avec la mesure.
(ZH)一种具有透明基底的薄膜的测量装置,沿光路传播方向依次包括:光源(1)、准直镜头(2)、滤波片(3)、起偏器(4)、分光元件(5)以及物镜(7),所述分光元件(5)连接有面阵探测器(11)与处理器(13),所述光源(1)发出的光依次经过准直镜头(2)、滤波片(3)、起偏器(4)、分光元件(5)以及物镜(7)后,形成测量光入射至具有透明基底的薄膜,由所述物镜(7)和分光元件(5)收集来自所述具有透明基底的薄膜的反射光,并由面阵探测器(11)与处理器(13)基于所收集的反射光对所述具有透明基底的薄膜的物理参数进行测量,所述测量装置还包括遮挡光阑,用于去除在测量过程中因所述透明基底而产生的对测量造成干扰的反射光。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)