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1. (WO2016154484) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR MICROSCOPIE À PARTICULES CHARGÉES AVEC STABILISATION ET INTERROGATION DE FAISCEAU D'IMAGE AMÉLIORÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/154484    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/024098
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 24.03.2016
CIB :
G01Q 30/02 (2010.01), G01N 23/203 (2006.01), G01Q 30/04 (2010.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Inventeurs : MASNAGHETTI, Douglas; (US).
TOTH, Gabor; (US).
TREASE, David; (US).
BOTHRA, Rohit; (US).
CHEN, Grace H.; (US).
KNIPPELMEYER, Rainer; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; (US)
Données relatives à la priorité :
62/137,229 24.03.2015 US
62/166,682 27.05.2015 US
62/214,737 04.09.2015 US
62/277,670 12.01.2016 US
15/079,046 24.03.2016 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE MICROSCOPY WITH IMPROVED IMAGE BEAM STABILIZATION AND INTERROGATION
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR MICROSCOPIE À PARTICULES CHARGÉES AVEC STABILISATION ET INTERROGATION DE FAISCEAU D'IMAGE AMÉLIORÉES
Abrégé : front page image
(EN)A scanning electron microscopy system with improved image beam stability is disclosed. The system includes an electron beam source configured to generate an electron beam and a set of electron-optical elements to direct at least a portion of the electron beam onto a portion of the sample. The system includes an emittance analyzer assembly. The system includes a splitter element configured to direct at least a portion secondary electrons and/or backscattered electrons emitted by a surface of the sample to the emittance analyzer assembly. The emittance analyzer assembly is configured to image at least one of the secondary electrons and/or the backscattered electrons.
(FR)L'invention concerne un système de microscopie électronique à balayage avec une stabilité de faisceau d'image améliorée. Le système comprend une source de faisceau d'électrons configurée pour produire un faisceau d'électrons et un ensemble d'éléments électro-optiques servant à diriger au moins une partie du faisceau d'électrons sur une partie de l'échantillon. Le système comprend un ensemble analyseur d'émittance. Le système comprend un élément diviseur configuré pour diriger au moins une partie des électrons secondaires et/ou des électrons rétrodiffusés émis par une surface de l'échantillon vers l'ensemble analyseur d'émittance. L'ensemble analyseur d'émittance est configuré pour effectuer l'imagerie d'au moins un type d'électrons parmi les électrons secondaires et/ou les électrons rétrodiffusés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)