WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016153343) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'APPAREIL DE DÉPÔT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2016/153343 N° de la demande internationale : PCT/NL2016/050195
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 21.03.2016
CIB :
C23C 16/44 (2006.01)
Déposants : ASM INTERNATIONAL N.V.[NL/NL]; Versterkerstraat 8 1322 AP Almere, NL
Inventeurs : GRANNEMAN, Ernst Hendrik August; NL
COOLEN, Michiel Leonard Matthieu; NL
VAN VELZEN, Wilhelmus Gerardus; NL
Mandataire : JANSEN, C.M.; NL
Données relatives à la priorité :
201449720.03.2015NL
Titre (EN) METHOD FOR CLEANING DEPOSITION APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'APPAREIL DE DÉPÔT
Abrégé :
(EN) A method for easily removing a deposition residue from deposition space components of a deposition apparatus in which substrates are treated for applying at least one layer using one of CVD, PECVD, ALD, PVD and evaporation. In a deposition apparatus having a deposition space that is bounded by deposition space walls at least one deposition treatment is performed to apply a layer on a substrate within the deposition space. The deposition space walls are provided with a coating. The deposition space walls are cleaned with a selective wet-etching treatment. The composition of the deposition space wall coating is adapted to the composition of the deposition residue that is deposited on the deposition space walls during the deposition treatment and the liquid etching agent that is used during the selective wet etching treatment, such that the deposition residue is removed without affecting the deposition space walls.
(FR) La présente invention concerne un procédé pour éliminer aisément un résidu de dépôt de composants d'espaces de dépôt d'un appareil de dépôt dans lequel des substrats sont traités pour appliquer au moins une couche au moyen de l'un de CVD, PECVD, ALD, PVD et l'évaporation. Dans un appareil de dépôt ayant un espace de dépôt qui est délimité par des parois d'espaces de dépôt, au moins un traitement de dépôt est effectué pour appliquer une couche sur un substrat dans l'espace de dépôt. Les parois d'espace de dépôt sont pourvues d'un revêtement. Les parois d'espace de dépôt sont nettoyées avec un traitement de gravure humide sélectif. La composition du revêtement de paroi d'espace de dépôt est adaptée pour la composition du résidu de dépôt qui est déposée sur les parois de l'espace de dépôt pendant le traitement de dépôt et l'agent de gravure liquide qui est utilisé pendant le traitement de gravure humide sélectif, de sorte que le résidu de dépôt soit éliminé sans affecter les parois d'espace de dépôt.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)