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1. (WO2016152997) SOLUTION DE PLACAGE UTILISANT DU SEL DE SULFONIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/152997    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/059457
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 24.03.2016
CIB :
C25D 3/32 (2006.01), C25D 3/60 (2006.01), H01L 21/60 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP)
Inventeurs : NAKAYA Kiyotaka; (JP).
WATANABE Mami; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-064071 26.03.2015 JP
2016-056774 22.03.2016 JP
Titre (EN) PLATING SOLUTION USING SULFONIUM SALT
(FR) SOLUTION DE PLACAGE UTILISANT DU SEL DE SULFONIUM
(JA) スルホニウム塩を用いためっき液
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a plating solution containing: (A) a soluble salt comprising at least a stannous salt; (B) an acid selected from among organic acids and inorganic acids, or a salt thereof; and (C) an additive containing a sulfonium salt that comprises one or more aromatic rings.
(FR)La présente invention concerne une solution de placage contenant: (A) un sel soluble comprenant au moins un sel stanneux; (B) un acide choisi parmi des acides organiques et des acides inorganiques, ou un sel de celui-ci; et (C) un additif contenant un sel de sulfonium qui comprend un ou plusieurs noyau(x)aromatique(s).
(JA)(A)少なくとも第一錫塩を含む可溶性塩と、(B)有機酸及び無機酸から選ばれた酸又はその塩と、(C)1又は2以上の芳香族環を含むスルホニウム塩を含む添加剤とを含むめっき液を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)