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1. (WO2016152419) SUBSTRAT STRATIFIÉ DE FILM MINCE FERROÉLECTRIQUE, ÉLÉMENT DE FILM MINCE FERROÉLECTRIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT STRATIFIÉ DE FILM MINCE FERROÉLECTRIQUE

Pub. No.:    WO/2016/152419    International Application No.:    PCT/JP2016/056420
Publication Date: Fri Sep 30 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Thu Mar 03 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 41/047
C01G 33/00
H01L 21/8246
H01L 27/105
H01L 37/02
H01L 41/187
H01L 41/29
Applicants: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
住友化学株式会社
Inventors: HORIKIRI Fumimasa
堀切 文正
SHIBATA Kenji
柴田 憲治
WATANABE Kazutoshi
渡辺 和俊
SUENAGA Kazufumi
末永 和史
ENDO Hiroyuki
遠藤 博之
Title: SUBSTRAT STRATIFIÉ DE FILM MINCE FERROÉLECTRIQUE, ÉLÉMENT DE FILM MINCE FERROÉLECTRIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT STRATIFIÉ DE FILM MINCE FERROÉLECTRIQUE
Abstract:
L'objet de la présente invention est de fournir un substrat stratifié de film mince ferroélectrique à base d'acide niobique qui permet de réduire les coûts, tout en conservant les performances et les caractéristiques en tant qu'élément de film mince, et de fournir un élément de film mince ferroélectrique découpé dans ledit substrat stratifié. Ce substrat stratifié de film mince ferroélectrique comprend, stratifiées dans cet ordre sur un substrat, une couche d'électrode inférieure, une couche de film mince ferroélectrique, une couche intermédiaire d'électrode supérieure et une couche d'électrode supérieure, et est caractérisé en ce que la couche d'électrode inférieure comprend du Pt ou un alliage de Pt, la couche de film mince ferroélectrique comprend (K1-xNax)NbO3 (0,4 ≦ x ≦ 0,7), la couche d'électrode supérieure comprend de l'Al ou un alliage d'Al, la couche intermédiaire d'électrode supérieure comprend un métal qui est moins sujet à l'oxydation que le Ti et qui peut produire un composé intermétallique avec l'Al, et une partie de la couche intermédiaire d'électrode supérieure ainsi qu'une partie de la couche d'électrode supérieure sont alliées.