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1. (WO2016152395) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’OUVRAGE SUR LEQUEL UN FILM EST FORMÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/152395    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/056079
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 29.02.2016
CIB :
C23C 14/50 (2006.01)
Déposants : SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Kasama 2-chome, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2478610 (JP)
Inventeurs : FUKUOKA, Yotaro; (JP).
YAGI, Sosuke; (JP)
Mandataire : KIUCHI, Mitsuharu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-057784 20.03.2015 JP
Titre (EN) FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING-WORK MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’OUVRAGE SUR LEQUEL UN FILM EST FORMÉ
(JA) 成膜装置及び成膜ワーク製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a film-forming apparatus and a film-forming-work manufacturing method with which it is possible, with a simple configuration, to form a film having a uniform thickness on a work having a plurality of surfaces, such as a three-dimensional object or the like. Included are: a target 21 for a film-forming material, which includes a plane SU3; a power source unit 3 that applies power to the target 21; a rotating part 4 that makes a work W, on which a film is to be formed, rotate about a rotation axis AX1; and a revolving part 5 that repeatedly moves the work W close to and away from the target 21 by making the rotating part 4 revolve about a revolution axis AX2, which is different from rotation axis AX1. During rotation and revolution, the rotation axis AX1 is fixed at an angle in which a rotation orbital plane SU1 that is orthogonal to the rotation axis AX1 has a first inclination angle θ1 with respect to a revolution orbital plane SU2 that is orthogonal to the revolution axis AX2, and the target 21 is fixed at an angle at which the plane SU3 has a second inclination angle θ2 with respect to the revolution orbital plane SU2.
(FR)L’invention porte sur un appareil de formation de film et un procédé de fabrication d’ouvrage sur lequel un film est formé avec lesquels il est possible, avec une configuration simple, de former un film ayant une épaisseur uniforme sur un ouvrage ayant une pluralité de surfaces, tel qu’un objet tridimensionnel ou similaire. L’appareil comprend : une cible (21) pour un matériau filmogène, qui comprend un plan SU3 ; une unité source d’énergie (3) qui applique de l’énergie à la cible (21) ; une partie rotative (4) qui amène un ouvrage W, sur lequel un film doit être formé, à tourner autour d’un axe de rotation AX1 ; et une partie tournante (5) qui déplace de façon répétée l’ouvrage W vers la cible (21) et à l’opposé de cette dernière par le fait d’amener la partie tournante (4) à tourner autour d’un axe de révolution AX2, qui est différent de l’axe de rotation AX1. Pendant la rotation et la révolution, l’axe de rotation AX1 est fixé à un angle dans lequel un plan orbital de rotation SU1 qui est orthogonal à l’axe de rotation AX1 a un premier angle d’inclinaison θ1 par rapport à un plan orbital de révolution SU2 qui est orthogonal à l’axe de révolution AX2 et la cible (21) est fixée à un angle auquel le plan SU3 a un second angle d’inclinaison θ2 par rapport au plan orbital de révolution SU2.
(JA)簡素な構成で、立体物等の複数の面を有するワークに対して、均一な厚さで成膜することができる成膜装置及び成膜ワーク製造方法を提供する。平面SU3を含む成膜材料のターゲット21と、ターゲット21に電力を印加する電源部3と、成膜対象であるワークWを自転軸AX1を中心として自転させる自転部4と、自転部4を、自転軸4とは別の公転軸AX2を中心に公転させることにより、ターゲット21に対するワークWの接近と離隔を反復させる公転部5と、を有し、自転中及び公転中における自転軸4は、これに直交する自転軌道面SU1が公転軸AX2に直交する公転軌道面SU2に対して第1の傾斜角度θ1を有する角度に固定され、ターゲット21は、平面SU3が公転軌道面SU2に対して第2の傾斜角度SU2を有する角度に固定されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)