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1. (WO2016152142) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/152142 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/001637
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 22.03.2016
CIB :
C23C 16/44 (2006.01) ,H01L 21/205 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD.[JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207, JP
Inventeurs : FUCHIGAMI, Shinichirou; --
MINAMI, Toshihiko; --
UMEDA, Yasushi; --
Mandataire : HIROKOH, Masaki; JP
Données relatives à la priorité :
2015-06035224.03.2015JP
Titre (EN) CLEANING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄方法
Abrégé :
(EN) In a jig used in a CVD device or a dry etching device, processing in a chamber causes adhesion of an accumulated film. When ignored, the accumulated film is a factor in reduced spark generation and precision, and quality degradation such as particle contamination. The present invention is a method for cleaning the jig of a vacuum processing device, the cleaning method characterized by including a step for immersing the jig in a tetramethylammonium hydroxide solution, a step for immersing the jig in a nitric acid solution, and a step for cleaning the jig using purified water.
(FR) L'invention concerne, dans un gabarit utilisé dans un dispositif CVD ou un dispositif de gravure à sec, un traitement dans une chambre qui cause l'adhérence d'un film accumulé. Lorsqu'il est ignoré, le film accumulé est un facteur dans la génération d'étincelle réduite et la précision, et la dégradation de la qualité telle que la contamination par des particules. La présente invention concerne un procédé de nettoyage du gabarit d'un dispositif de traitement sous vide, le procédé de nettoyage étant caractérisé en ce qu'il comprend une étape d’immersion du gabarit dans une solution d'hydroxyde de tétraméthylammonium, une étape consistant à immerger le gabarit dans une solution d'acide nitrique, et une étape de nettoyage du gabarit au moyen d'eau purifiée.
(JA)  CVD装置やドライエッチング装置内で使用される治具には、チャンバー内での処理によって堆積膜が固着する。この堆積膜は放置しておくと、スパークの発生、精度の低下、パーティクル汚染といった品質劣化に繋がる原因となる。 真空処理装置の治具の洗浄方法であって、前記治具を水酸化テトラメチルアンモニウム溶液に浸漬する工程と、前記治具を硝酸溶液に浸漬する工程と、前記治具を純水で洗浄する工程とを含むことを特徴とする洗浄方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)