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1. (WO2016152091) LIQUIDE DE GRAVURE POUR UN FILM MULTICOUCHE, CONCENTRÉ DE GRAVURE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/152091    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/001462
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 15.03.2016
CIB :
C23F 1/18 (2006.01), C23F 1/26 (2006.01), H01L 21/308 (2006.01)
Déposants : PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
Inventeurs : CHAKUNO, Makoto; (--).
KITO, Yusuke; (--).
FUCHIGAMI, Shinichirou; (--).
KOSANO, Yoshihide; (--)
Mandataire : HIROKOH, Masaki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-058223 20.03.2015 JP
Titre (EN) ETCHING LIQUID FOR MULTILAYER FILM, ETCHING CONCENTRATE, AND ETCHING METHOD
(FR) LIQUIDE DE GRAVURE POUR UN FILM MULTICOUCHE, CONCENTRÉ DE GRAVURE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE
(JA) 多層膜用エッチング液とエッチング濃縮液およびエッチング方法
Abrégé : front page image
(EN)When an etching liquid for etching, with a single liquid, a multilayer film formed of a copper layer and a molybdenum layer is to be used in mass production, it is important that the post-etching cross-sectional shape of the edge meets the morphological demand of having a forward tapered shape without any undercuts and that a precipitate does not develop in the etching liquid. This etching liquid for multilayer films including a copper layer and a molybdenum layer contains hydrogen peroxide, an inorganic acid, an acidic organic acid, a neutral organic acid, an amine compound, and a hydrogen peroxide decomposition inhibitor. Since the etching liquid does not contain an azole compound, the etching liquid does not generate a reactant with hydrogen peroxide and a precipitate is not produced in the etching liquid. In addition, the cross-sectional shape of the edge after the etching can be formed in a preferable forward tapered shape. Furthermore, since the etching liquid also does not contain a phosphorus compound or a fluorine compound, the etching liquid has a small environmental load upon being discarded.
(FR)Selon l'invention, lorsqu'un liquide de gravure destiné à graver, avec un seul liquide, un film multicouche composé d'une couche de cuivre et d'une couche de molybdène doit être utilisé dans une production en grande série, il est important que la forme en coupe transversale après gravure du bord satisfasse la demande morphologique de présenter une forme effilée vers l'avant sans contre-dépouilles et qu'un précipité ne se développe pas dans le liquide de gravure. Ledit liquide de gravure pour des films multicouches comportant une couche de cuivre et une couche de molybdène contient du peroxyde d'hydrogène, un acide inorganique, un acide organique acide, un acide organique neutre, un composé aminé et un inhibiteur de décomposition du peroxyde d'hydrogène. Puisque le liquide de gravure ne contient pas un composé azolé, le liquide de gravure ne génère pas un réactif avec du peroxyde d'hydrogène et un précipité n'est pas produit dans le liquide de gravure. De plus, la forme en coupe transversale du bord après la gravure peut être façonnée en une forme préférable effilée vers l'avant. En outre, puisque le liquide de gravure ne contient également pas un composé phosphoré ou un composé fluoré, le liquide de gravure présente une faible charge environnementale lors de sa mise au rebut.
(JA) 銅層とモリブデン層の多層膜を1液でエッチングするエッチング液においては、エッチング後のエッジの断面形状が、アンダーカットがなく順テーパーになっているという形状的な要求とともに、エッチング液中に析出物が発生しない事が、量産時に用いられる際に重要となる。 過酸化水素と、無機酸と、酸性有機酸と、中性有機酸と、アミン化合物と、過酸化水素分解抑制剤を含む銅層とモリブデン層を含む多層膜用エッチング液は、アゾール化合物を含まないため、過酸化水素との間で反応物を生成することがなく、エッチング液中に析出物は生じない。しかも、エッチング後のエッジの断面形状が、好ましい順テーパー形状にすることができる。さらに、リン化合物、フッ素化合物も含まないため、廃棄の際に環境負荷も軽い。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)