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1. (WO2016152020) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE DÉCHETS À PARTIR DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/152020 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/000907
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 19.02.2016
CIB :
H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 2-6-1, Ote-machi, Chiyoda-ku, Tokyo 1008150, JP
Inventeurs : YABUTA, Hironobu; JP
NAGANO, Akihisa; JP
NIIMI, Gota; JP
Mandataire : KONISHI, Kay; JP
Données relatives à la priorité :
2015-05995323.03.2015JP
Titre (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING WASTE MATERIAL THEREFROM
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE DÉCHETS À PARTIR DE CELUI-CI
(JA) 極端紫外光光源装置及びその廃原料処理方法
Abrégé : front page image
(EN) The present invention discloses: an extreme ultraviolet light source device enabling, without any associated enlargement of the device, an increase in electricity input, or without a reduction in operation suspension time of the device caused by maintenance; and a method for processing waste material from the device. The extreme ultraviolet light source device (100) is provided with collection members (electric discharge part cover (29), a foil trap cover (35)) for collecting waste material, and discharge ports (first drain (30), second drain (37)) for discharging the waste material outside the collection members in a droplet state. In addition, the extreme ultraviolet light source device (100) is provided with a cooling stage (trap stage(51)) for receiving waste material discharged from the discharge ports, waste material transfer parts (sweeper (52), sweeper driving part (53)) for transferring, into a waste material storage part (70), waste material that has been cooled and solidified at the cooling stage, and a load lock part (60) installed between a chamber (11) and the waste material storage part (70).
(FR) La présente invention concerne : un dispositif de source de lumière ultraviolette extrême permettant, sans aucun agrandissement associé du dispositif, une augmentation de l'entrée d'électricité, ou sans réduction du temps de suspension de fonctionnement du dispositif provoqué par l'entretien ; et un procédé de traitement de déchets à partir du dispositif. Le dispositif de source de lumière ultraviolette extrême (100) est pourvu d'éléments de collecte (couvercle de partie de décharge électrique (29), couvercle de piège à feuilles (35)) permettant de collecter des déchets, et d'orifices d'évacuation (premier drain (30), second drain (37)) permettant d'évacuer les déchets à l'extérieur des éléments de collecte dans un état de gouttelettes. De plus, le dispositif de source de lumière ultraviolette extrême (100) est pourvu d'un étage de refroidissement (étage de piège (51)) permettant de recevoir les déchets évacués par les orifices d'évacuation, de parties de transfert de déchets (balayeuse (52), partie d'entraînement (53) de balayeuse) permettant de transférer, dans une partie de stockage de déchets (70), les déchets qui ont été refroidis et solidifiés à l'étage de refroidissement, et d'une partie de verrouillage de charge (60) installée entre une chambre (11) et la partie de stockage de déchets (70).
(JA)  装置の大型化や投入電力の増大を伴うことなく、メンテナンスに起因する装置の稼働停止時間を低減することができる極端紫外光光源装置、及びその廃原料処理方法が開示される。極端紫外光光源装置(100)は、廃原料を捕集する捕集部材(放電部カバー(29)、ホイルトラップカバー(35))と、廃原料を液滴状で捕集部材の外部へ排出するための排出口(第一のドレイン(30)、第二のドレイン(37))と、を備える。また、極端紫外光光源装置(100)は、排出口から排出された廃原料を受け止める冷却ステージ(トラップステージ(51))と、冷却ステージ上で冷却され固体化した廃原料を廃原料貯蔵部(70)内に移動する廃原料移動部(スイーパ(52)、スイーパ駆動部(53))と、チャンバ(11)と廃原料貯蔵部(70)との間に設置されたロードロック部(60)と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)