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1. (WO2016151968) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/151968    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/085830
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 22.12.2015
CIB :
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), C23C 16/46 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : FUJIKURA Hajime; (JP).
KONNO Taichiro; (JP).
NUMATA Takayuki; (JP).
NEMOTO Shusei; (JP)
Mandataire : FUKUOKA Masahiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-063489 25.03.2015 JP
Titre (EN) SUBSTRATE TREATMENT DEVICE AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置及び基板処理方法
Abrégé : front page image
(EN)According to the present invention, a substrate pedestal that performs heat transmission with a substrate placed on a placement surface provided in at least one of a temperature raising part and a temperature lowering part formed within a vessel and a temperature control unit that controls the temperature of the substrate pedestal are provided, wherein, when the substrate pedestal is provided in the temperature raising part, the temperature control unit controls the temperature of the substrate pedestal before the substrate is placed on the substrate pedestal such that the substrate to be loaded into a treatment unit can be raised to a predetermined temperature and, when the substrate pedestal is provided in the temperature lowering part, controls the temperature of the substrate pedestal before the substrate is placed on the substrate pedestal such that the treated substrate unloaded from the treatment unit can be lowered to a predetermined temperature.
(FR)L'invention concerne un socle de substrat qui effectue une transmission de chaleur avec un substrat placé sur une surface de placement disposée dans une partie d'élévation de température et/ou une partie d'abaissement de température formées à l'intérieur d'un récipient et une unité de régulation de température qui régule la température du socle de substrat. Lorsque le socle de substrat est disposé dans la partie d'élévation de température, l'unité de régulation de température régule la température du socle de substrat avant le placement du substrat sur le socle de substrat, de telle sorte que le substrat à charger dans une unité de traitement puisse être élevé à une température prédéfinie et, lorsque le socle de substrat est disposé dans la partie d'abaissement de température, régule la température du socle de substrat avant le placement du substrat sur le socle de substrat, de telle sorte que le substrat traité déchargé de l'unité de traitement puisse être abaissé à une température prédéfinie.
(JA) 容器の内部に形成された昇温部又は降温部の少なくともいずれかに設けられ、載置面上に載置された基板との間で熱伝達を行う基板載置台と、基板載置台の温度を制御する温度制御部と、を備え、温度制御部は、基板載置台が昇温部に設けられた場合、基板が基板載置台に載置される前に、基板載置台の温度を、処理部に搬入されることとなる基板を所定の温度に昇温させることができる温度にするように制御し、基板載置台が降温部に設けられた場合、基板が基板載置台に載置される前に、基板載置台の温度を、処理部から搬出した処理済の基板を所定の温度に降温させることができる温度にするように制御する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)