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1. (WO2016151902) APPAREIL DE FORMATION DES MOTIFS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DES MOTIFS D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE À L'AIDE DE CE DERNIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/151902    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/078388
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 06.10.2015
CIB :
H05B 33/10 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : OKUMURA, Naohiro; (JP).
SHINDO, Hiroyuki; (JP).
MORIKAWA, Masahiro; (JP)
Mandataire : KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-057062 20.03.2015 JP
Titre (EN) PATTERNING APPARATUS AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT PATTERNING METHOD USING SAME
(FR) APPAREIL DE FORMATION DES MOTIFS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DES MOTIFS D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE À L'AIDE DE CE DERNIER
(JA) パターニング装置及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a patterning apparatus capable of performing patterning with high productivity and high dimensional accuracy. The present invention also addresses the problem of providing an organic electroluminescent element patterning method using the patterning apparatus. A patterning apparatus of the present invention is provided with: an ultraviolet emitting unit; a housing that reflects and guides ultraviolet generated from the ultraviolet emitting unit; and a glass mask to be irradiated with the ultraviolet, said glass mask being provided below the housing. The patterning apparatus is characterized by being provided with a pair of air flow generation units at positions facing each other on an upper surface of the glass mask so that, through a gap between the glass mask and the housing, air is blown in parallel to the glass mask and in the direction toward the center of the glass mask.
(FR)La présente invention aborde le problème de fourniture d'un appareil de formation des motifs pouvant effectuer une formation de motifs avec une productivité élevée et une haute précision dimensionnelle. La présente invention aborde également le problème de fourniture d'un procédé de formation de motifs d'élément électroluminescent organique à l'aide de l'appareil de formation des motifs. Un appareil de formation des motifs de la présente invention est pourvu : d'une unité d'émission de rayonnement ultraviolet ; d'un boîtier qui réfléchit et guide le rayonnement ultraviolet généré par l'unité d'émission de rayonnement ultraviolet ; et d'un masque de verre destiné à être exposé au rayonnement ultraviolet, ledit masque de verre étant disposé au-dessous du boîtier. L'appareil de formation des motifs est caractérisé en ce qu'il est muni d'une paire d'unités de génération de courant d'air au niveau de positions se faisant face sur une surface supérieure du masque de verre de manière que, dans un espace compris entre le masque de verre et le boîtier, de l'air soit soufflé parallèlement au masque de verre et dans le sens vers le centre du masque de verre.
(JA) 本発明の課題は、生産性が高く、寸法精度の高いパターニングが可能なパターニング装置を提供することである。また、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法を提供することである。 本発明のパターニング装置は、紫外線発光部、前記紫外線発光部から発せられた紫外線を反射導光する筐体及びその下部に紫外線が照射されるガラスマスクを備えたパターニング装置であって、前記ガラスマスク上面の対向する位置に、前記ガラスマスクと前記筐体との間隙を通して、空気が前記ガラスマスクと平行に、かつ前記ガラスマスクの中央方向に吹き付けられるよう配置された一対の空気流発生部が備えられていることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)