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1. (WO2016151809) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLON POUR DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/151809 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/059186
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 25.03.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 18.12.2015
CIB :
H01J 37/22 (2006.01) ,H01J 37/244 (2006.01) ,H01J 37/26 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
22
Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
244
Détecteurs; Composants ou circuits associés
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
Déposants :
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventeurs :
久保 貴 KUBO Takashi; JP
Mandataire :
平木 祐輔 HIRAKI Yusuke; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND SAMPLE OBSERVATION METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLON POUR DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における試料観察方法
Abrégé :
(EN) The charged particle beam device comprises: an electron gun for generating an electron beam; an imaging lens system for imaging the electron beam that has passed through a sample; a splitting portion (6) where the electron beam that has passed through the imaging lens system is split into a first image component and a second image component; a first image detection unit (7) for detecting the first image component and outputting a first image (32); a second image detection unit (9) for detecting the second image component and outputting a second image (33); a processing unit; and display units (14, 15). The magnification for the second image (33) is greater than the magnification for the first image (32). The processing unit generates a third image (36) by combining the first image (32) and the second image (33), and the display units (14, 15) display the second image (33) and the third image (36).
(FR) L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées qui comprend : un canon électronique pour la génération d'un faisceau d'électrons; un système de lentilles d'imagerie pour l'imagerie du faisceau d'électrons qui a traversé un échantillon; une partie de division (6) où le faisceau d'électrons qui a traversé le système de lentilles d'imagerie est divisé en un premier composant d'image et un deuxième composant d'image; une première unité de détection d'image (7) pour la détection du premier composant d'image et la sortie d'une première image (32); une deuxième unité de détection d'image (9) pour la détection du deuxième composant d'image et la sortie d'une deuxième image (33); une unité de traitement; et des unités d'affichage (14, 15). L'agrandissement pour la deuxième image (33) est supérieur à l'agrandissement pour la première image (32). L'unité de traitement génère une troisième image (36) en combinant la première image (32) et la deuxième image (33), et les unités d'affichage (14, 15) affichent la deuxième image (33) et la troisième image (36).
(JA)  荷電粒子線装置は、電子線を発生させる電子銃と、試料を透過した前記電子線を結像させる結像レンズ系と、前記結像レンズ系を経由した前記電子線を第1の像成分と第2の像成分とに分岐させる分岐部(6)と、前記第1の像成分を検出し、第1の画像(32)を出力する第1の画像検出部(7)と、前記第2の像成分を検出し、第2の画像(33)を出力する第2の画像検出部(9)と、処理部と、表示部(14,15)とを有し、前記第2の画像(33)の倍率は前記第1の画像(32)の倍率よりも大きく、前記処理部は、前記第1の画像(32)と前記第2の画像(33)とを合成して第3の画像(36)を生成し、前記表示部(14,15)は、前記第2の画像(33)、及び前記第3の画像(36)を表示する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)