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1. (WO2016150176) SOL DE GRAINS ABRASIFS NANOCOMPOSITES DE DIOXYDE DE SILICIUM DOPÉ CONTENANT DU COBALT, SOLUTION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/150176 N° de la demande internationale : PCT/CN2015/095184
Date de publication : 29.09.2016 Date de dépôt international : 20.11.2015
CIB :
C09K 3/14 (2006.01) ,C09G 1/02 (2006.01)
Déposants : JIANGSU TIANHENG NANO SCIENCE AND TECHNOLOGY CO., LTD.[CN/CN]; No.18, Dong Hai Road (East), Cheng Dong Town, Hai'an County Nantong, Jiangsu 226600, CN
Inventeurs : LI, Jiarong; CN
MA, Pan; CN
Mandataire : CO-HORIZON INTELLECTUAL PROPERTY INC.; Suite 104, C Block, YingTe Apartment No.28, Xibahe Xili, Chaoyang District Beijing 100028, CN
Données relatives à la priorité :
201510127305.323.03.2015CN
Titre (EN) COBALT-CONTAINING DOPED SILICON DIOXIDE NANO-COMPOSITE ABRASIVE GRAIN SOL, POLISHING SOLUTION AND PREPARATION METHOD THEREOF
(FR) SOL DE GRAINS ABRASIFS NANOCOMPOSITES DE DIOXYDE DE SILICIUM DOPÉ CONTENANT DU COBALT, SOLUTION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ASSOCIÉ
(ZH) 含钴掺杂二氧化硅纳米复合磨粒溶胶、抛光液及其制备方法
Abrégé :
(EN) Provided is a cobalt-containing doped silicon dioxide nano-composite abrasive grain sol, a preparation method thereof comprising: mixing, by weight percentage, 0.43 wt% of cobalt nitrate solution and 2.5 wt% of silicic acid solution according to a mass ratio of 1:1, adding 1 wt% of sodium hydroxide, and precipitating, via a coprecipitation method, the above on a silicon dioxide seed crystal for reaction so as to obtain the sol. Nano-composite abrasive grains in the sol are uniform spheres. A doping content of cobalt hydroxide in the cobalt-containing doped silicon dioxide nano-composite abrasive grain sol is 0.1 wt% - 5 wt%. When a polishing solution provided by the present invention is adopted for polishing a sapphire substrate, a sapphire surface removal rate can be effectively increased, and a sapphire surface roughness can be reduced.
(FR) La présente invention concerne un sol de grains abrasifs nanocomposites de dioxyde de silicium dopé contenant du cobalt, un procédé de préparation associé consistant à : Mélanger, en pourcentage en poids, 0,43 % en poids d'une solution de nitrate de cobalt et 2,5 % en poids d'une solution d'acide silicique selon un rapport massique de 1:1, ajouter 1 % en poids d'hydroxyde de sodium, et précipiter, par l'intermédiaire d'un procédé de coprécipitation, le mélange ci-dessus sur un cristal germe de dioxyde de silicium permettant la réaction de manière à obtenir le sol. Les grains abrasifs nanocomposites dans le sol sont des sphères uniformes. Un contenu de dopage d'hydroxyde de cobalt, dans le sol de grains abrasifs nanocomposites de dioxyde de silicium dopé contenant du cobalt, est compris entre 0,1 % en poids à 5 % en poids. Lorsqu'une solution de polissage, de la présente invention, est adoptée pour polir un substrat de saphir, un taux d'élimination de surface de saphir peut être efficacement augmenté, et une rugosité de surface du saphir peut être réduite.
(ZH) 本发明提供了一种含钴掺杂二氧化硅纳米复合磨粒溶胶,由质量百分数为0.43wt%的硝酸钴溶液和2.5wt%的硅酸溶液按1:1的质量比,同时加入1wt%氢氧化钠,通过共沉淀法沉淀在二氧化硅晶种上反应制成,所述的溶胶中的纳米复合磨粒呈均匀球形,所述的含钴掺杂二氧化硅纳米复合磨粒溶胶中的氢氧化钴掺杂量为0.1wt%-5wt%。采用本发明提供的抛光液对蓝宝石基片进行抛光,可以有效地提高蓝宝石表面去除率,降低蓝宝石表面的粗糙度。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)