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1. (WO2016149711) NANOSTRUCTURES DE SILICE, PROCÉDÉS DE FABRICATION À GRANDE ÉCHELLE, ET LEURS APPLICATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/149711    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/023492
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 21.03.2016
CIB :
C01B 33/16 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01), B82Y 5/00 (2011.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street, 5th Floor Oakland, CA 94607-5200 (US)
Inventeurs : KUMMEL, Andrew, C.; (US).
LIBERMAN, Alexander; (US).
VIVEROS, Robert; (US).
TROGLER, William, C.; (US)
Mandataire : AI, Bing; (US)
Données relatives à la priorité :
62/135,653 19.03.2015 US
Titre (EN) SILICA NANOSTRUCTURES, LARGE-SCALE FABRICATION METHODS, AND APPLICATIONS THEREOF
(FR) NANOSTRUCTURES DE SILICE, PROCÉDÉS DE FABRICATION À GRANDE ÉCHELLE, ET LEURS APPLICATIONS
Abrégé : front page image
(EN)Methods, systems, and devices are disclosed for fabricating and utilizing nanoscale material structures such as nanoflakes and nanoshells.
(FR)L'invention concerne des procédés, des systèmes et des dispositifs pour fabriquer et utiliser des structures de matériau à l'échelle nanométrique, telles que des nanocoques et des nanoflocons.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)