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1. (WO2016149629) DÉCOLLEMENT ÉPITAXIAL À RELAXATION DE CONTRAINTE PAR L'INTERMÉDIAIRE DE MÉSAS PRÉ-STRUCTURÉS

Pub. No.:    WO/2016/149629    International Application No.:    PCT/US2016/023171
Publication Date: Fri Sep 23 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Sat Mar 19 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 31/18
H01L 21/78
Applicants: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN
Inventors: FORREST, Stephen, R.
LEE, Kyusang
FAN, Dejiu
Title: DÉCOLLEMENT ÉPITAXIAL À RELAXATION DE CONTRAINTE PAR L'INTERMÉDIAIRE DE MÉSAS PRÉ-STRUCTURÉS
Abstract:
La présente invention concerne des procédés pour l'élimination ou la réduction d'écaillage de couches épitaxiales en couches minces traitées à décollement épitaxial sur des substrats hôtes secondaires permettant la fabrication de dispositifs à couches minces à décollement épitaxial. Les procédés utilisent des tranchées de relaxation de contrainte à motifs.