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1. (WO2016149287) ÉCHANTILLONNAGE ADAPTATIF POUR LA DÉTERMINATION D'UNE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/149287    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/022499
Date de publication : 22.09.2016 Date de dépôt international : 15.03.2016
CIB :
H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : PLIHAL, Martin; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; (US)
Données relatives à la priorité :
62/133,823 16.03.2015 US
15/067,118 10.03.2016 US
Titre (EN) ADAPTIVE SAMPLING FOR PROCESS WINDOW DETERMINATION
(FR) ÉCHANTILLONNAGE ADAPTATIF POUR LA DÉTERMINATION D'UNE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Abrégé : front page image
(EN)Methods and systems for determining a process window for a process performed on a specimen are provided. In general, the embodiments preferentially sample locations in an instance of at least a portion of a device formed on a specimen at a value of a parameter of a process performed on the specimen that is closest to an edge of a determined process window for the process. If defects are detected at the sampled locations, then the sampling may be performed again but for a different instance of the device formed at a value of the parameter that is closer to nominal than the previously used value. When no defects are detected at the sampled locations, then the sampling may be ended, and the determined process window may be modified based on the value of the parameter corresponding to the instance of the device in which no defects were detected.
(FR)L'invention concerne des procédés et systèmes pour déterminer une fenêtre de traitement pour un traitement effectué sur un échantillon. En général, les modes de réalisation échantillonnent de préférence des emplacements dans une instance d'au moins une partie d'un dispositif formé sur un échantillon à une valeur d'un paramètre d'un traitement exécuté sur l'échantillon qui est la plus proche d'un bord d'une fenêtre de traitement déterminée pour le traitement. Si des défauts sont détectés en correspondance des emplacements échantillonnés, l'échantillonnage peut alors être effectué à nouveau mais pour une instance différente du dispositif formé à une valeur du paramètre qui est plus proche de la valeur nominale que la valeur utilisée antérieurement. Lorsqu'aucun défaut n'est détecté en correspondance des emplacements échantillonnés, l'échantillonnage peut alors être terminé, et la fenêtre de traitement déterminée peut être modifiée sur la base de la valeur du paramètre correspondant à l'instance du dispositif dans lequel aucun défaut n'a été détecté
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)